Back to the Trenchesとは 意味・読み方・使い方

An etching back process is carried out to remove excess first conductive material so as to form spacer 12 in the second trench and to leave the conductive material 140 in the first trenches only.例文帳に追加

エッチバックプロセスを行い、余分な第１の導電材料を除去し、第２のトレンチにスペーサ１２２を形成するとともに、第１のトレンチのみに導電材料１４０を残す。 - 特許庁

In a circuit formation surface 12 in which predetermined processing circuits (14-16) etc. of the IC chip 11 are formed, or in a sticking surface to the substrate in the back 13, guide trenches 19 of a predetermined shape are formed which diffuse the adhesives at the pushing against the substrate toward at least four corners.例文帳に追加

ＩＣチップ１１の所定処理回路（１４〜１６）等が形成される回路形成面１２、またはその背面１３における基材への接着面に、少なくとも四隅に向かって当該基材への押圧時の接着剤を拡散させる所定形状のガイド溝１９形成させる構成とする。 - 特許庁