Dry Chemicalとは 意味・読み方・使い方

Furthermore, these alloys are high in chemical resistance, and are easy of dry etching, and are excellent in stress controllability, too.例文帳に追加

さらに、これら合金は薬品耐性が高く、ドライエッチングが容易で、応力制御性にも優れている。 - 特許庁

To provide a dry developing apparatus and a dry developing method by which a chemical can be preferably applied on a photosensitive material from a position where the top frame is located without injecting an excessive chemical than a required amount.例文帳に追加

必要以上の薬剤を吐出することなく、感光材料の先端コマの位置する箇所から良好な薬剤塗布を可能にする乾式現像処理装置と乾式現像処理方法とを提供する。 - 特許庁

A first chemical unit 21 has a first chemical processing plate 31, a first rinse unit 22 has a first rinse processing plate 32, a second chemical unit 23 has a second chemical processing plate 33, a second rinse unit 24 has a second rinse processing plate 34, and a dry unit 25 has a dry processing plate 35.例文帳に追加

第１薬液ユニット２１は、第１薬液処理プレート３１を備え、第１リンスユニット２２は第１リンス処理プレート３２を備え、第２薬液ユニット２３は第２薬液処理プレート３３を備え、第２リンスユニット２４は第２リンス処理プレート３４を備え、乾燥ユニット２５は乾燥処理プレート３５を備えている。 - 特許庁

CHEMICAL AMPLIFICATION-TYPE NEGATIVE-WORKING PHOTORESIST COMPOSITION FOR LOW-TEMPERATURE DRY ETCHING AND METHOD FOR PHOTORESIST PATTERN FORMATION USING THE SAME例文帳に追加

低温ドライエッチング用化学増幅型ネガ型ホトレジスト組成物及びこれを用いたホトレジストパターン形成方法 - 特許庁

A first covering layer L1 is formed on a surface of a chemical particle P by dry coating of a hydrophobic powder P'.例文帳に追加

薬物粒子Ｐの表面に疎水性粉末Ｐ’の乾式コーティングにより第１被覆層Ｌ１を形成する。 - 特許庁

In this chemical transpiration body obtained by impregnating or retaining a transpiring chemical on a holding material, a plant body processed by drying and/or chemical treatment, so-called dry flower is used as the holding material.例文帳に追加

蒸散性薬剤を保持材に含浸もしくは保持させてなる薬剤蒸散体において、上記保持材として、乾燥及び／又は薬剤処理により加工されてなる植物体、所謂ドライフラワーを用いる。 - 特許庁

A chemical wet etching by alkali or acid and a physical dry etching such as a sputter etching are used as the etching method.例文帳に追加

エッチング法としてはアルカリや酸による化学的湿式エッチング、スパッタエッチングなどの物理的ドライエッチングが使用される。 - 特許庁

Then, etching is conducted for the substrate 1 by dry etching of a chemical etching mode by chlorine-based gas using the nickel layers 4 as protective layers (e).例文帳に追加

続いて、ニッケル層４を保護層として、塩素系ガスによる化学エッチンブモードのドライエッチングにより、基板１をエッチングする（ｅ）。 - 特許庁