Gas bubblerとは 意味・読み方・使い方

In a humidified gas supply system B, humidified gas including steam in the saturated state is acquired by humidifying the high purity air sufficiently by a bubbler 14 and by cooling the gas to a fixed temperature by an electronic cooler 18.例文帳に追加

加湿ガス供給系Ｂでは、高純度空気にバブラー１４で十分な加湿を行った後に電子クーラ１８で一定温度に冷却し、水蒸気を飽和状態とした加湿ガスを得る。 - 特許庁

To provide a bubbler that can select a supply system for a raw material gas to a substrate processing apparatus in accordance with the kind of a liquid raw material and vaporization pressure of the liquid raw material.例文帳に追加

液体原料の種類・蒸気圧に応じて基板処理装置への原料ガス供給方式を選択可能なバブラを提供する。 - 特許庁

The system 1 for producing a semiconductor substrate comprises a CVD furnace 2 for growing an epitaxial layer on a semiconductor substrate (wafer) W, an exhaust gas bubbler 3 branched from the way of piping 23 for discharging exhaust gas, and an analyzer 4 for analyzing metals in the exhaust gas captured by pure water 33 in the bubbler 3.例文帳に追加

半導体基板の製造装置１は半導体基板（ウェーハ）Ｗにエピタキシャル層を成長させるＣＶＤ炉２、その排気ガスの排出用配管２３の途中から分岐して設けられた排気ガスのバブリング装置３、バブリング装置３の純水３３に捕捉された排気ガス中の金属を分析する分析装置４とから構成される。 - 特許庁

The liquid substance 3 is vaporized, and next, the bubbler 1 to the interior of which the carrier gas 7 is transferred is disposed to use or feed the same to the consumption device.例文帳に追加

液体物質３を蒸発させ、次いで使用・消費装置に搬送するために、キャリアーガス７が内部に搬送されるバブラー１が配設される。 - 特許庁

The exhaust gas discharged from the filter 2 is bubbled in a bubbler 4 to remove mist or the like and the bubbled exhaust gas is introduced into the zirconia oxygen densitometer 6 through a flowmeter 5 to measure the concentration of residual oxygen.例文帳に追加

フィルタ２から排出された排ガスは、バブラ４でバブリングされてミスト等が除去され、流量計５を介してジルコニア式酸素濃度計６に導入され、残存酸素濃度が測定される。 - 特許庁

Exhaust gas from the CVD furnace 2 is bubbled into the pure water 33 in the bubbler 3, metals contained in the exhaust gas is captured as an analytic sample and the density of metals in the exhaust gas is analyzed thus determining whether a semiconductor substrate having an epitaxial layer can be used or not.例文帳に追加

ＣＶＤ炉２からの排気ガスをバブリング装置３の純水３３中にバブリングさせ、排ガス中に含まれる金属を捕捉して分析試料とし、排気ガス中の金属濃度を分析してエピタキシャル層を有する半導体基板の使用の可否を判定する。 - 特許庁

An impurity diffusion device is constituted into a structure, wherein carrier gas containing impurities for diffusion, which is passed through an impurity bubbler 27, is introduced in a reaction tube 22 of a vertical type diffusion furnace 21 through a nozzle 26 provided in the upper part of the tube 22.例文帳に追加

縦型拡散炉２１の反応管２２内には、上部に設けられるノズル２６から、不純物バブラ２７を通過して拡散用の不純物を含むキャリアガスが導入される。 - 特許庁

The steam oxidation apparatus 78 is provided with a H_2O bubbler 60, a second gas tube 68, automatic on-off valves 66A to 66D, a third gas tube 70 near the automatic on-off valves 66A to 66D, and a thermostatic bath 72 for accommodating a part of a gas inflow port 42A side of the reactor 42.例文帳に追加

水蒸気酸化装置７８は、Ｈ_２Ｏバブラ６０、第２ガス管６８、自動開閉弁６６Ａから６６Ｄ、自動開閉弁６６Ａから６６Ｄの近傍の第３ガス管７０、及びリアクタ４２のガス流入口４２Ａ側の一部を収容する恒温槽７２を備える。 - 特許庁