PATTERN-LESSとは 意味・読み方・使い方

To form a pattern in which a pattern with a dimension of less than a resolution limit of lithography and a pattern with an optional dimension are mixed and coexist, by using a sidewall spacer.例文帳に追加

サイドウォールスペーサを利用してリソグラフィー解像限界未満のパターンと任意の寸法のパターンとが混在するパターンを形成する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a nano-mold, by which a nano-pattern with a less diameter and a less pitch is formed.例文帳に追加

より小径かつ小ピッチのナノパターンを形成することができるナノ金型の製造方法の提供。 - 特許庁

ii. Equipment that can burn a pattern with a line width of less than 1 micrometer発音を聞く 例文帳に追加

２　一マイクロメートル未満の線幅のパターンを焼き付けることができるもの - 日本法令外国語訳データベースシステム

The depth of the recessed pattern is 70% or less of the thickness of the case 12, and the height of the projected pattern is 70% or less of the thickness of the case 12.例文帳に追加

凹設されている模様の深さはケース１２の厚さの７０％以下であり、凸設されている模様の高さはケース１２の厚さの７０％以下である。 - 特許庁

If the average print rate is less than 5%, a solid pattern is formed as a toner discharge pattern T, and if the average print rate is above 5%, a dot pattern is formed.例文帳に追加

５％未満である場合はトナー吐出パターンＴとしてソリッドパターンを形成し、５％以上である場合はドットパターンを形成する。 - 特許庁

To provide a multi-pattern wiring substrate, where swelling and separation are less apt to occur between an insulating resin layer and a dummy pattern.例文帳に追加

絶縁樹脂層とダミーパターンとの間に膨れや剥れが発生しにくい多数個取り配線基板を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method for forming a pattern which decreases reflectivity of EUV light with a less dose amount.例文帳に追加

少ないドーズ量でＥＵＶ光の反射率を低下させたパターンを形成できるパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

A pattern dimension W2 of the contact window 19 is a half or less than the pattern dimension W1 of the emitter region 5.例文帳に追加

そのコンタクト窓１９のパターン寸法Ｗ２は、エミッタ領域５のパターン寸法Ｗ１に対して１／２以下である。 - 特許庁