Photo Chemicalとは 意味・読み方・使い方

PHOTO ACID GENERATOR, CHEMICAL AMPLIFICATION RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING PATTERN FROM THE SAME例文帳に追加

光酸発生剤、化学増幅レジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

To provide a method for producing a useful chemical substance except carbon monoxide by a carbon dioxide-photo-reducing reaction using a metal complex.例文帳に追加

金属錯体を用いる二酸化炭素の光還元反応において、一酸化炭素以外の有用な化学物質を製造する方法を提供する。 - 特許庁

A chemical amplification positive type photoresist which exhibits enhanced photo-acid generating efficiency in exposure with high energy light may be used.例文帳に追加

更なる態様においては、高エネルギー露光に際して向上したフォト酸発生効効率を発揮する化学増幅ポジ型フォトレジストが用いられる。 - 特許庁

In this process, a polymer carrier object is covered by a chemical composition, comprising photo-polymerizable compounds, photo-initiators or catalysts with the ability to initiate polymerization and semi-fluorinated molecules.例文帳に追加

本プロセスにおいて、ポリマーキャリア目的物は、光重合性化合物、重合を開始する性能を有する光開始剤又は触媒、及び半フッ素化分子を含む化学組成物で被覆される。 - 特許庁

To provide a photo acid generator, one component of a chemical amplification photo resist which has spectral sensitivity in the visible light region, especially argon laser light (488 nm or 514 nm) and can improve workability.例文帳に追加

可視域に、特にアルゴンレーザー光（４８８ｎｍ又は５１４ｎｍ）に分光感度を持ち、作業性を向上できる化学増幅系フォトレジストの一成分系光酸発生剤を提供するものである。 - 特許庁

To provide a photo acid generators which has excellent transparency for UV light having a wavelength of ≤220 nm and a high photoreaction efficiency (photo acid generation efficiency), and to provide a chemical amplification resist composition which gives pattern sidewalls having excellent smoothness.例文帳に追加

波長２２０ｎｍ以下の紫外光に対して透明性に優れ、光反応効率（光酸発生効率）が高い光酸発生剤、および解像性、パターン側壁の平滑性に優れた化学増幅レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The top antireflective coating composition contains a polymer for a top antireflective coating, a photo-acid generator and an organic solvent, wherein a bissulfone compound expressed by chemical formula (1) is used for the photo-acid generator to prepare the composition.例文帳に追加

上部反射防止膜の重合体と、光酸発生剤と、有機溶媒と、を含む上部反射防止膜の組成物であって、光酸発生剤として下記化学式（１）で示されるビススルホン系化合物を使用して組成物を構成する。 - 特許庁

To provide a method of making a substrate have a photo-induced hydrophilic surface by forming a photo-induced hydrophilic coating on the substrate by spray pyrolysis, chemical vapor deposition or magnetron sputter vacuum deposition, and to provide an article obtained thereby.例文帳に追加

基体上に、噴霧熱分解、化学蒸着、又はマグネトロンスパッター真空蒸着により光誘導親水性被覆を形成することにより、基体に光誘導親水性表面を与える方法及び物品を提供する。 - 特許庁