「Photo Chemical」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To provide a method for reducing the chemical activity and photo activity of titanium dioxide nanoparticles.例文帳に追加

二酸化チタンナノ粒子の化学的活性および光活性を低減させる方法を提供すること。 - 特許庁

PHOTO ACID GENERATING AGENT COMPOUND, CHEMICAL AMPLIFICATION POSITIVE TYPE RESIST MATERIAL AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

光酸発生剤化合物、化学増幅ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁

PHOTO ACID GENERATOR, CHEMICAL AMPLIFICATION RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING PATTERN FROM THE SAME例文帳に追加

光酸発生剤、化学増幅レジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

To provide a method for producing a useful chemical substance except carbon monoxide by a carbon dioxide-photo-reducing reaction using a metal complex.例文帳に追加

金属錯体を用いる二酸化炭素の光還元反応において、一酸化炭素以外の有用な化学物質を製造する方法を提供する。 - 特許庁

A chemical amplification positive type photoresist which exhibits enhanced photo-acid generating efficiency in exposure with high energy light may be used.例文帳に追加

更なる態様においては、高エネルギー露光に際して向上したフォト酸発生効効率を発揮する化学増幅ポジ型フォトレジストが用いられる。 - 特許庁

In this process, a polymer carrier object is covered by a chemical composition, comprising photo-polymerizable compounds, photo-initiators or catalysts with the ability to initiate polymerization and semi-fluorinated molecules.例文帳に追加

本プロセスにおいて、ポリマーキャリア目的物は、光重合性化合物、重合を開始する性能を有する光開始剤又は触媒、及び半フッ素化分子を含む化学組成物で被覆される。 - 特許庁

To provide a photo acid generator, one component of a chemical amplification photo resist which has spectral sensitivity in the visible light region, especially argon laser light (488 nm or 514 nm) and can improve workability.例文帳に追加

可視域に、特にアルゴンレーザー光（４８８ｎｍ又は５１４ｎｍ）に分光感度を持ち、作業性を向上できる化学増幅系フォトレジストの一成分系光酸発生剤を提供するものである。 - 特許庁

To provide a photo acid generators which has excellent transparency for UV light having a wavelength of ≤220 nm and a high photoreaction efficiency (photo acid generation efficiency), and to provide a chemical amplification resist composition which gives pattern sidewalls having excellent smoothness.例文帳に追加

波長２２０ｎｍ以下の紫外光に対して透明性に優れ、光反応効率（光酸発生効率）が高い光酸発生剤、および解像性、パターン側壁の平滑性に優れた化学増幅レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The top antireflective coating composition contains a polymer for a top antireflective coating, a photo-acid generator and an organic solvent, wherein a bissulfone compound expressed by chemical formula (1) is used for the photo-acid generator to prepare the composition.例文帳に追加

上部反射防止膜の重合体と、光酸発生剤と、有機溶媒と、を含む上部反射防止膜の組成物であって、光酸発生剤として下記化学式（１）で示されるビススルホン系化合物を使用して組成物を構成する。 - 特許庁

To provide a method of making a substrate have a photo-induced hydrophilic surface by forming a photo-induced hydrophilic coating on the substrate by spray pyrolysis, chemical vapor deposition or magnetron sputter vacuum deposition, and to provide an article obtained thereby.例文帳に追加

基体上に、噴霧熱分解、化学蒸着、又はマグネトロンスパッター真空蒸着により光誘導親水性被覆を形成することにより、基体に光誘導親水性表面を与える方法及び物品を提供する。 - 特許庁

To provide a photo-setting composition which is very less in the amount of gas emission during photo-setting, is excellent in sealing property, adhesiveness, chemical resistance or the like, and is suitable for sealing an electrolyte of a wet organic solar cell.例文帳に追加

光硬化時のガス放出量が極めて少なく、封止性、密着性、耐薬品性などに優れ、湿式有機太陽電池の電解液を封止するのに適した光硬化性組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a photo- and/or heat-curable resin that is excellent in mass productivity and yields an excellent cured film fully satisfying characteristics such as hardness, heat resistance, chemical resistance, whitening resistance, electroless gold plating resistance, and electrical insulation and to provide a composition containing the photo- and/or heat-curable resin and a cured product thereof.例文帳に追加

量産性に優れ、また硬度、耐熱性、耐薬品性、白化耐性、無電解金めっき耐性、電気絶縁性等の特性を充分に満足する優れた硬化皮膜が得られる光及び／又は熱硬化性樹脂、それを含有する組成物及び硬化物を提供する。 - 特許庁

To provide a graft polymer having a polyorganosiloxane structure, which is excellent in chemical resistance, wear resistance, and adhesion, has a good photo-curing property, is stable over time, and exerts a good photo-curing property without heat treatment after photoirradiation, and a photopolymerizable resin composition produced using the same.例文帳に追加

耐薬品性、耐摩耗性および接着性に優れ、良好な光硬化性を有し、更には経時によっても安定であり、光照射後に熱処理を施すことなく良好な光硬化性を示すポリオルガノシロキサン構造を有するグラフト重合体およびこれを利用した光重合性樹脂組成物を与える。 - 特許庁

To provide a photo-setting type ink composition for ink jet recording capable of imparting good dispersion stability, membrane strength and chemical resistance to a recording medium in a method for ink jet recording by which the ink composition is brought into contact with the recording medium and a photo-setting reaction is carried out to perform printing.例文帳に追加

記録媒体にインク組成物を接触して光硬化反応させて印字を行うインクジェット記録方法において、記録媒体への良好な分散安定性、膜強度および耐薬品性を付与する光硬化型インクジェット記録用インク組成物の提供。 - 特許庁

To provide a photo detector and a photo-detection method in which the thickness of the device can be reduced, color mixing can be suppressed, satisfactory color separability can be achieved together with high sensitivity, chemical stability can be achieved, and the compatibility of a production process with a production process of peripheral circuits can be realized.例文帳に追加

素子の厚さを薄くすることができ、混色の抑制、色分離性と感度の両立、及び化学的安定性を図り、周辺回路との作製プロセスの適合が可能となる光検出素子及び光検出方法を提供する。 - 特許庁

To provide a curing resin composition in which a cured film superior in various characteristics such as soldering heat resistance, chemical resistance, solvent resistance, moisture absorption resistance, PCT resistance, and so forth, is obtained, by containing a novel photo-sensitive (meta) acrylate compound superior in the reaction property, and also superior in the chemical resistance and water resistance.例文帳に追加

反応性に優れると共に、耐薬品性、耐水性にも優れた新規な感光性（メタ）アクリレート化合物を含有することにより、はんだ耐熱性、耐薬品性、耐溶剤性、耐吸湿性、ＰＣＴ耐性等の諸特性に優れた硬化皮膜が得られる硬化性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

Provided is the liquid crystal photo-alignment agent that includes at least one of polyamic acid copolymers having mutually different specified structures and polyimide copolymers thereof in a repeating unit shown by chemical formula (1).例文帳に追加

下記化学式（１）で表される繰り返し単位で、互いに異なる特定構造のポリアミック酸共重合体ならびにこれらのポリイミド化共重合体の少なくとも一方の共重合体を含む液晶光配向剤である。 - 特許庁

To provide a method of forming a patterned thin film by introducing double bond-containing functional groups to surfaces of carbon nanotubes by a chemical method and photo-curing the surface-modified carbon nanotubes.例文帳に追加

二重結合を有する作用基を炭素ナノチューブの表面に化学的な方法で導入し、このように表面修飾された炭素ナノチューブの光硬化によってパターン薄膜を形成する方法を提供する。 - 特許庁

A technique selected from a group comprising mechanical, chemical, (laser) optical, electric and photo-etching techniques is preferably applied for forming the pit or the groove on the support.例文帳に追加

前記支持体上へのピット又は溝の形成には、好ましくは機械的、化学的、（レーザ）光学的、電気的及びフォトエッチング技術からなる群から選択される技術が適用される。 - 特許庁

SEMICONDUCTOR, MIXED CRYSTAL SEMICONDUCTOR, SEMICONDUCTOR COMPOSITION, LUMINESCENT MATERIAL AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, ENERGY CONVERTER, METHOD OF UTILIZING SURFACE CHEMICAL PHOTO-REACTION OR NATURAL LIGHT例文帳に追加

半導体、混晶半導体、半導体組成物、ルミネッセンス材料及びそれらの製造方法、エネルギー変換装置、界面化学光反応の利用方法または自発光の利用方法 - 特許庁

To provide an epoxy resin composition excellent in photo-setting by activation radiation, and excellent in water resistance, heat resistance, toughness, adherence and chemical resistance.例文帳に追加

活性エネルギー線での光硬化性に優れ、かつ耐水性、耐熱性、強靱性、密着性、耐薬品性などに優れたエポキシ樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a fluoroalkylsulfonic anhydride which is a substance useful as a catalyst for synthesizing medicines, organic compounds and the like or as a photo acid generator for chemical amplification type resists.例文帳に追加

医薬、有機合成等の触媒あるいは化学増幅型レジストの光酸発生剤として有用な物質であるフルオロアルキルスルホン酸無水物の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing an aromatic amide compound, by which the aromatic amide compound used as an industrial chemical, especially a color photographic photo-sensitive material, and having a sufficiently high quality can industrially easily be produced.例文帳に追加

工業薬品、特にカラー写真感光材料に用いられるシアンカプラーとしての使用において十分な高品質の芳香族アミド類を工業的に容易に製造する方法を提供する。 - 特許庁

The photosensitive composition contains a truxene derivative having an acid-labile group and a photo-acid generator which generates an acid by an action of chemical radiation.例文帳に追加

酸分解性基を有するトルクセン誘導体化合物と、化学放射線の作用により酸を発生する光酸発生剤とを含有することを特徴とする。 - 特許庁

To provide an organic insulating film which enables a fine pattern process and can improve the electric performance of a transistor because it has a chemical resistance against the organic solvent used in the photo lithography process.例文帳に追加

フォトリソグラフィ工程中に使用される有機溶媒に耐化学性を有するので、微細パターン工程を可能とし且つトランジスタの電気的性能を向上させることが可能な有機絶縁膜を提供する。 - 特許庁

To provide a photo mask protective film material having high ultraviolet ray transmittance, high hardness, high adhesion, excellent coating properties with high chemical resistance, and excellent wiping washability free from a wiping trace, and allowing low temperature hardening and easier rework.例文帳に追加

高い紫外線透過率、高硬度、高密着性、高耐薬品性に優れた塗布特性、拭きシミ跡の残らない優れた拭き洗浄性、低温硬化、リワークを容易にするフォトマスク用保護膜材料を提供する。 - 特許庁

To provide a photo-sensitive resin composition capable of producing a cured membrane which is cured by an energy ray and excellent in abrasion resistance and chemical resistance, and has a low index of refraction and low degree of reflection, and also to provide a film comprising the said cured membrane.例文帳に追加

エネルギー線によって硬化し、耐擦傷性、耐薬品性に優れ、低屈折率で反射率の低い硬化皮膜を与える感光性樹脂組成物、更にはその硬化皮膜を有するフィルムを提供する。 - 特許庁

The state of the dimming glass 10 can be change to a transparent one, an opaque one or a translucent one by utilizing the physico-chemical phenomena such as electro-chromism, photo-chromism, and thermo- chromism.例文帳に追加

調光ガラス１０は、例えば、エレクトロクロミズム、フォトクロミズム、サーモクロミズム等の物理化学的現象を利用して透明、不透明、あるいは半透明の状態に切り替えが可能である。 - 特許庁

To provide a photo- and/or heat-curable composition having excellent storage stability and giving an excellent cured film which satisfies such properties as hardness, heat resistance, chemical resistance, electroless gold plating resistance and electric insulation, and a cured product thereof.例文帳に追加

保存安定性に優れ、また硬度、耐熱性、耐薬品性、無電解金めっき耐性、電気絶縁性等の特性を充分に満足する優れた硬化膜が得られる光及び／又は熱硬化性組成物及びその硬化物を提供する。 - 特許庁

To provide a photo-curing sheet which can be favorably used for manufacturing a formed article excellent in designing performance and is excellent in an abrasion resistance, weather resistance and chemical resistance while having a good adhesiveness between a photo-curing composition layer and a substrate sheet, a non-sticky surface and an excellent processability and storage stability, and a formed article using the sheet.例文帳に追加

意匠性の良好な成形品の製造に有利に用いることのできる、耐磨耗性、耐候性および耐薬品性に優れ、かつ、光硬化性樹脂組成物の層と基材シートとの密着性が良好であり、表面粘着性がなく、加工性および保存安定性に優れた光硬化性シートおよびそのシートを用いた成形品を提供すること。 - 特許庁

The method of manufacturing the mounting product in which an electrode 11 of a photo-diode array and an electrode 71 of an ROIC (Read-Out IC) 50 are joined together via the junction bumps 79, 9 includes the step of forming the junction bump 79 on the electrode 71 of the ROIC, and the step of chemical-mechanical-polishing (CMP) the junction bumps 79 on the entire of the ROIC.例文帳に追加

フォトダイオードアレイの電極１１とＲＯＩＣ５０の電極７１とが、接合バンプ７９，９を介在させて接合された実装製品の製造において、ＲＯＩＣの電極７１に接合バンプ７９を形成する工程と、ＲＯＩＣの全体の接合バンプ７９を化学機械研磨（ＣＭＰ：Chemical Mechanical Polishing）する工程とを備えることを特徴とする。 - 特許庁

A pattern is formed on a surface-treated base material by a photo-lithographic method, and a carbon nanotube is laminated in a single or multiple manner by utilizing a chemical self-organizing method thereon to form a pattern of the carbon nanotube.例文帳に追加

表面処理された基材上にフォトリソグラフィ方法によりパターンを形成し、その上に化学的自己組織化の方法を利用してカーボンナノチューブを単層および多層に積層してカーボンナノチューブのパターンを形成させる方法である。 - 特許庁

To provide a replica mold having high durability against chemical, thermal and mechanical stresses, and suitably usable in various nano-lithography technologies including thermal NIL (NanoImprint Lithography) and photo NIL, and to provide a method for simply and inexpensively fabricate the replica mold.例文帳に追加

化学的、熱的および機械的なストレスに対して高い耐久性を有し、熱ＮＩＬおよび光ＮＩＬを含む種々のナノリソグラフィー技術に好適に用いることができるレプリカモールドおよび、簡便かつ安価にレプリカモールドを作製する方法を提供する。 - 特許庁

In a highly efficient photo-reactor, a fibrous, nano-sheetlike or porous spherical photocatalyst is suspended in a liquid phase and the photocatalyst is further fixed to an inner wall if necessary and irradiated with ultraviolet rays to perform chemical reaction in the liquid phase with high efficiency.例文帳に追加

液相中に繊維状、ナノシート状、あるいは多孔質球状光触媒を懸濁し、さらに、必要により内壁に光触媒を固定化し、紫外線照射することにより、液相中の化学反応を高効率で行わせることができる高効率リアクタを開発した。 - 特許庁

The chemical amplification type resist material 3 containing a base resin, a photo-acid generating agent and a cationic polyelectrolyte is applied on a substrate 1, heat-treated and developed with an aqueous alkali solution to form a positive type resist pattern 5.例文帳に追加

ベース樹脂、光酸発生剤、及びカチオン性高分子電解質を含有してなる化学増幅型レジスト材料３を基板１上に塗布し、熱処理を行った後、アルカリ水溶液により現像を行い、ポジ型のレジストパターン５を形成する。 - 特許庁

To provide a dilute alkali development-type photo-curable thermosetting resin composition which is suitable for use in obtaining a cured coating film which exhibits excellent adhesion with a substrate, chemical resistance, solder heat resistance, PCT resistance, thermal shock resistance, electroless gold plating resistance, electrical insulation properties, etc.例文帳に追加

基板との密着性、耐薬品性、はんだ耐熱性、ＰＣＴ耐性、冷熱衝撃耐性、無電解金めっき耐性、電気絶縁性等に優れる硬化皮膜を得るのに適した希アルカリ現像型の光硬化性熱硬化性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photo-curable resin composition which is excellent in transparency, chemical resistance, alkali resistance, heat resistance and water resistance, and also has a high compressive strength, thus gives a patterned transparent film and is excellent in process margin, photographic sensitivity and developability.例文帳に追加

透明性、耐薬品性、耐アルカリ性、耐熱性、耐水性に優れ、かつ高い圧縮強度を併せ持ち、表示素子に用いられるパターン化された透明膜を与える、プロセスマージン、感度、現像性に優れた光硬化性樹脂組成物を提供することである。 - 特許庁

To provide a photo-curable resin composition with which excellent finger touch drying properties, developing properties and through-hole developing properties can be obtained and whose cured substance has better soldering heat resistance, chemical gold-plating resistance and electrical properties than conventional substance.例文帳に追加

優れた指触乾燥性、現像性、及びスルーホール現像性を得ることができるとともに、その硬化物において、従来と同等以上のはんだ耐熱性、耐無電解金めっき性、電気特性を得ることが可能な光硬化性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photo- and/or thermosetting composition that provides a cured film having excellent developability and sufficient characteristics such as hardness, solder heat resistance, chemical resistance, adhesiveness, PCT (Pessure Cooker Test) durability, electroless gold plating durability, whitening resistance, electric insulating property and flexibility, and to provide a cured product of the composition.例文帳に追加

現像性に優れ、また、硬度、はんだ耐熱性、耐薬品性、密着性、ＰＣＴ耐性、無電解金めっき耐性、白化耐性、電気絶縁性、可撓性等の特性を充分に満足する優れた硬化膜が得られる光及び／又は熱硬化性組成物及びその硬化物を提供する。 - 特許庁

A battery can 1 is formed into a rectangular shape using a metal plate, such as aluminum copper, iron, stainless steel or brass, and by way of plastic working such as deep drawing; and then on the outer surface, a convex-concave portion 1a is formed by chemical etching using photo-resist.例文帳に追加

アルミニウム、銅、鉄、ステンレス鋼、黄銅等からなる金属製電池缶１を、深絞り加工等の塑性加工により矩形形状に加工した後、その外側面に凹凸部１ａをフォトレジストを用いた化学エッチングにより形成した。 - 特許庁

To provide a carry container wherein a deterioration in a quality of a product to be carried or a chemical change does not occur or is difficult to occur when a case with a photo mask, a mask blank and a glass substrate received or a case for receiving them is to be carried outside a clean room.例文帳に追加

クリーンルーム外で、フォトマスク、マスクブランクス、ガラス基板を収納したケースないし収納するためのケースを搬送する際に、搬送される製品の品質劣化や化学変化が起こらない、あるいは起こりずらい搬送コンテナを提供する。 - 特許庁

To provide a photo- and/or thermosetting composition that provides an excellent cured film having excellent developability and sufficient characteristics such as hardness, solder heat resistance, chemical resistance, adhesiveness, PCT (Pressure Cooker Test) durability, electroless gold plating durability, whitening resistance, electric insulating property and flexibility, and also to provide a cured product of the composition.例文帳に追加

現像性に優れ、また、硬度、はんだ耐熱性、耐薬品性、密着性、ＰＣＴ耐性、無電解金めっき耐性、白化耐性、電気絶縁性、可撓性等の特性を充分に満足する優れた硬化膜が得られる光及び／又は熱硬化性組成物及びその硬化物を提供する。 - 特許庁

To provide a cleaning method which has a high washing performance using little chemical and has extremely low reattachment of foreign matters, etc. to a substrate in cleaning the substrate to be used for semiconductor manufacturing such as a silicon wafer and a photo mask, and to provide a spin cleaning apparatus.例文帳に追加

シリコンウェーハやフォトマスク等の半導体製造に使用される基板を洗浄するに際し、少量の薬液で高い洗浄能力を持ち、異物等の基板への再付着が極めて少ない洗浄方法、およびスピン式洗浄装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for reducing olefin with use of a metal complex catalyst and without parallel use of a chemical reducing agent, more particularly, to provide a titanium oxide/base-metal complex photo-reduction catalyst including combination of titanium oxide that is a solid photocatalyst exhibiting photosensitization action and a base-metal complex compound that becomes a catalytic site.例文帳に追加

化学還元剤を併用しない金属錯体触媒を用いたオレフィンの還元方法の提供、詳細には、光増感作用を示す固体光触媒である酸化チタンと、触媒部位となる卑金属錯体化合物とを組み合わせた、酸化チタン−卑金属錯体光還元触媒を提供する。 - 特許庁

To provide a negative resist material, in particular a chemical amplitude negative resist material, which has a high contrast of alkali dissolution rate before and after light exposure, has a high resolution at high sensitivity and small line edge roughness and is especially suitable as a fine pattern forming material in manufacturing a super LSI or in manufacturing a photo mask pattern material and to provide a pattern formation method and a photomask blank using the negative resist material.例文帳に追加

露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが高く、高感度で高解像性を有し、ラインエッジラフネスが小さい、特に超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクパターン作製における微細パターン形成材料として好適なネガ型レジスト材料、特に化学増幅ネガ型レジスト材料、これを用いたパターン形成方法及びフォトマスクブランクを提供する。 - 特許庁