Plasma Gridとは 意味・読み方・使い方

An intermediate grid 8 closely contacted to the upper surface of a shielding grid 6 is provided, and the thickness t of the intermediate grid 8 is differentiated in response to plasma density.例文帳に追加

遮蔽グリッド６の上面に密着させた中間グリッド８を設けると共に、プラズマ密度に応じて前記中間グリッド８の厚みｔを異ならせる。 - 特許庁

In the apparatus, a grid electrode is arranged on the front face of the deposition substrate in a plasma stream side and the positive or negative bias voltage to the potential of the plasma is applied to the grid electrode corresponding to the polarity of the atom ion to be doped.例文帳に追加

堆積基板の前面、プラズマ流側にグリッド電極を配置し、内包対象原子イオンの極性に応じて、グリッド電極にプラズマの電位に対し正または負のバイアス電圧を印加することにした。 - 特許庁

A grid board assembly, which is for a plasma-ashing machine used for removing a photoresist as an integrated circuit and a micro electromechanical device are worked, is provided with an upper grid board and an lower grid board that is separated from the upper grid board with a variable gap in between, and each of these upper and lower grid boards has a chain of holes.例文帳に追加

集積回路及びマイクロ電気機械デバイスを加工する時のホトレジスト除去のために用いられるプラズマ灰化機械のためのグリッド板組立体において、上方グリッド板と、前記上方グリッド板から可変間隙により分離された下方グリッド板とを具え、然も、前記上方及び下方のグリッド板が一連の孔を有する、上記グリッド板組立体。 - 特許庁

Thermal deformation-absorbing parts 13 and 23, each having a slot structure, are formed around porous parts 11 and 21 of the screen grid 10 and the acceleration grid 20, respectively, outside a plasma-generating zone.例文帳に追加

遮蔽グリッド１０および加速グリッド２０の多孔部１１，２１の周囲であって、プラズマ生成領域より外側領域に、スロット構造を持つ熱変形吸収部１３，２３を設けた。 - 特許庁

Ions in the plasma P is drawn out by a grid G, and is irradiated on a substrate S as an ion beam flux IB.例文帳に追加

このプラズマＰ中のイオンはグリッドＧにより引き出され、イオンビーム束ＩＢとして基板Ｓに照射される。 - 特許庁

In an ion implanter 10 in which ions are extracted from a plasma P formed in a vacuum chamber 1 via a grid electrode 6 and in which the ions are implanted into a substrate W, a voltage applying means to alternately supply positive ions and electrons in the plasma to the substrate via the grid electrode 6 is installed.例文帳に追加

真空チャンバ１内で形成したプラズマＰからグリッド電極６を介してイオンを引き出し、基板Ｗへ当該イオンを注入するイオン注入装置１０において、グリッド電極６を介してプラズマ中の正イオンと電子を基板へ交互に供給する電圧印加手段を設ける。 - 特許庁

The device further includes an electrical potential applying circuit (28) for applying an electrical potential to the grid (22) so as to make the grid (22) repel electrons discharged by the plasma radiation source (20) and produce a positive space electrical charge between the grid (22) and the foil trap (24) to deflect ions discharged by the plasma radiation source (20) toward the foil trap.例文帳に追加

この装置は更に、グリッド（２２）がプラズマ放射源（２２）によって放出される電子を反発し、且つ、グリッド（２２）とフォイルトラップ（２４）との間に正の空間電荷を作成してプラズマ放射源（２０）によって放出されるイオンをフォイルトラップに向けて偏向させるように、グリッド（２２）に電位を印加する電位印加回路（２８）を含む。 - 特許庁

A thin magnetic field layer perpendicular to a cathode current is applied from the outside of a plasma heating tube to the position of the grid electrode conductor in place of the grid electrode conductor, and using the phenomenon that an electron flow causes cyclotron motion, the cathode current is controlled by the strength of the magnetic field layer whereby gain action similar to the grid electrode conductor is obtained to heat a plasma while solving the thermal problems.例文帳に追加

本発明では上記格子電極導体の代わりに格子電極導体の位置にプラズマ加熱管の外部より陰極電流に直角な薄い磁界層を加え，電子流がサイクロトロン運動を生じることを利用して磁界層の強さにより陰極電流を制御することにより格子電極導体と同様の利得作用を得てプラズマを加熱すると共に熱的問題を解決している。 - 特許庁