Radical 8とは 意味・読み方・使い方

An insulator film comprising an oxide film is formed on a wafer 3 by supplying a radical generated by a radical generator 8 to the surface of the wafer 3 and oxidizing a metal film.例文帳に追加

ラジカル発生器８により発生したラジカルがウエハ３表面へ供給され金属膜が酸化されることにより、ウエハ３上へ、酸化膜からなる絶縁体膜が形成される。 - 特許庁

In May, 1870, Koga who was extremely radical and eight other Dai junsatsu were dismissed in the name of the reduction of personnel.発音を聞く 例文帳に追加

1870年（明治3年）5月、特に過激であった古賀のほか大巡察8名が人員削減を名目に免官となった。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

A plasma processing apparatus includes: a processing gas supply source 8 installed outside a vacuum chamber 12; and a radical emitter 10 for discharging processing gas supplied from the processing gas supply source 8.例文帳に追加

真空槽１２の外部に設けられた処理ガス供給源８と、処理ガス供給源８から供給された処理ガスを放電させるラジカル放出器１０とを備える。 - 特許庁

The foaming agent for use in foam shielding contains an alkyl ether sulfate salt containing a hydrocarbon radical having 8 to 18 carbon atoms and an alcohol having 8 to 18 carbon atoms at a specific weight ratio.例文帳に追加

炭素数８〜18の炭化水素基を有するアルキルエーテル硫酸エステル塩と、炭素数８〜18のアルコールとを、特定の重量比で含有する気泡シールド用起泡剤。 - 特許庁

The reaction rate constant of the organic compound with OH radical, H radical or hydrated electron must be in the range of from 1×10^8 to 5×10^10 M^-1s^-1, and, when added to radiopharmaceuticals, molar concentration of the organic compound must be at least 50 times as high as molar concentration of the active ingredient.例文帳に追加

該有機化合物はＯＨラジカル、Ｈラジカルあるいは水和電子との反応速度定数が１×１０^8 〜５×１０^10Ｍ^-1ｓ^-1の範囲にあり、放射性医薬品に添加するとき、そのモル濃度は主剤のモル濃度の５０倍以上を用いる。 - 特許庁

To simultaneously detect radical and dust in reactive plasma, and to sensitively detect low concentration dust of small size (8 nm or less).例文帳に追加

反応性プラズマ中のラジカルとダストを同時に検出し、サイズが小さく(８ ｎｍ以下)、かつ、低濃度なダストを高感度に検出する。 - 特許庁

A plasma treatment apparatus includes a radical ejector 10 which is prepared movably relative to a substrate 5, which discharges the treatment gas supplied from a treatment gas supply source 8 and ejects the radical of the treatment gas to the substrate 5.例文帳に追加

基板５に対して相対移動可能に設けられ、処理ガス供給源８から供給された処理ガスを放電させ、当該処理ガスのラジカルを基板５に向って放出するためのラジカル放出器１０を備える。 - 特許庁

The radical is flown into a measuring tube 8 that is connected to the generation chamber 5 through a blocking part 4 for blocking radiation heat of plasma.例文帳に追加

ラジカルは、生成室５に対し、プラズマの輻射熱を遮蔽する遮蔽部４を介して接続された測定管８に流入させられる。 - 特許庁