Strain crystallizationとは 意味・読み方・使い方

During or after the formation of the piezoelectric film 8, the deformation of the glass diaphragm 6 is prevented during heat treatment by crystallizing the piezoelectric film 8 at a crystallization temperature not higher than the strain point of the glass diaphragm 6.例文帳に追加

圧電膜８の成膜中または成膜後に、ガラス振動板６の歪み点より低い結晶化温度で圧電膜８を結晶化させることで、加熱処理中のガラス振動板６の変形を防ぐ。 - 特許庁

The diaphragm 6 anodically joined is thinned and polished to a thickness of not greater than 10 μm and is so flexed that with this flexion, the anodic joint is prevented from peeling off caused by thermal strain during heat treatment for the crystallization of the piezoelectric element 8.例文帳に追加

また、ガラス振動板６を陽極接合後に１０μｍ以下に研磨薄片化し、たるみを発生させておくことで、圧電膜８の結晶化のための加熱処理中の熱歪によって陽極接合部が剥がれるのを防ぐ。 - 特許庁

This method is a method by which erythritol is produced by fermentation using an erythritol productive strain in the substantial absence of polysaccharides and then produced erythritol crystals are collected by direct crystallization from an unpurified fermentation broth not containing microorganisms.例文帳に追加

本発明は、ポリサッカライドを実質上含有しないエリスリトール産生菌株を用いる醗酵によってエリスリトールを産生し、ついでこのエリスリトール結晶を未精製の微生物不含醗酵ブロスからの直接結晶化によって回収する方法に関する。 - 特許庁

Strain or stress incident to crystallization can be concentrated to a region other than a recess by depositing a semiconductor film on an insulating film provided with a linear recess and irradiating the semiconductor film with a laser beam thereby pouring molten semiconductor into the recess.例文帳に追加

直線状凹部が設けられた絶縁膜を形成し、その上に半導体膜を堆積し、レーザー光を該半導体膜に照射し凹部に半導体膜を溶融して流し込み結晶化させることで、結晶化に伴う歪み又は応力を凹部以外の領域に集中させることができる。 - 特許庁

The orientation rate of a semiconductor film 104 is enhanced by adding a rare gas element, typically argon, into an amorphous semiconductor film 102 during or after formation thereof thereby crystallizing the amorphous semiconductor film, and strain existing in the crystallized semiconductor film 104 is relaxed as compared with that before crystallization.例文帳に追加

本発明は、非晶質半導体膜１０２の形成時、または形成後において膜中に希ガス元素、代表的にはアルゴンを含ませて結晶化させることによって半導体膜１０４の配向率を高め、且つ、結晶化前と比較して結晶化後の半導体膜１０４中に存在する歪みを緩和させる。 - 特許庁

To provide a profile extrusion molding of a polyoxymethylene resin produced by means of a sizing die of a specified shape produced in consideration of dimensional variation due to crystallization, and having less strain and excellent dimensional precision, and a method of manufacturing the profile extrusion molding with good production efficiency.例文帳に追加

結晶化による寸法変化を考慮した特定形状のサイジングダイを用いることで、ポリオキシメチレン樹脂からなる、歪が小さく、寸法精度の優れた異形押出成形品、及びその生産効率の良い異形押出成形品の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a compsn. excellent in elongation at a low stress and adhesiveness with a substrate, and having small residual strain and high recovery stress after elongation, by compounding thermoplastic polyurethanes each contg. a polymer polyol unit or a polyether polyol unit and having a specified nitrogen atom content and crystallization enthalpy.例文帳に追加

Ｔ−ダイ型押出機などで溶融押出成形する際に生じるネックイン現象や、インフレーション成形機で溶融成形する際に生じる厚み斑や割れをさらに改善し、基材との接着性に優れたフィルムやシートなどの成形品を、高生産性で製造することができる熱可塑性ポリウレタンを提供する。 - 特許庁