Target Erosionとは 意味・読み方・使い方

To prevent the occurrence of a recessed part of erosion at an edge of a target of a linear sputtering system of a configuration that a magnet moves with respect to the target.例文帳に追加

ターゲットに対して磁石が移動する構成のリニアスパッタ装置のターゲットの縁部での侵食凹部の発生を防止することにある。 - 特許庁

As the magnetic field is moved, a plasma condensing unit is also moved, the erosion state of the target 15 becomes uniform, and the target utilization efficiency is enhanced.例文帳に追加

磁界の移動によってプラズマ収束部も移動し、ターエゲット１５のエロージョン状態が均一になるために、ターゲット利用効率が向上する。 - 特許庁

In this way, an erosion region formed by the magnetic apparatus 20 is formed around the hole 26, and the target 21 is not present at a part serving as into a non-erosion region, thus the using efficiency of the target 21 is high.例文帳に追加

従って、磁石装置２０により形成されるエロージョン領域は、孔２６の周囲に形成され、非エロージョン領域になるべき部分にはターゲット２１が存在しないから、ターゲット２１の使用効率が高い。 - 特許庁

In the sputtering target assembly, a target material and a backing plate are assembled, the target material is arranged at an erosion region, and a member in a nonerosion region is contacted with the target material and the backing plate separably therefrom.例文帳に追加

ターゲット材およびバッキングプレートが組み立てられ、エロージョン領域にターゲット材を配置し、非エロージョン領域の部材がターゲット材およびバッキングプレートから分離可能に接触しているスパッタリングターゲット組立体を提供する。 - 特許庁

The efficiency of utilizing the target is considerably improved by forming a back side of the sputtering target 1 of a shape according to a shape of erosion on a face side of the target at the simulated target service life.例文帳に追加

スパッタリングターゲット１の裏面側を、シミュレーションによるターゲット寿命となったときの、前記ターゲット表面側の侵食形状に応じた形状とすることにより、ターゲット利用効率を大幅に向上させる。 - 特許庁

To provide a magnet structure which can realize the wide erosion of a target by changing the distribution of magnetic force lines on the surface of the target by a simple driving mechanism.例文帳に追加

簡易な駆動機構によりターゲット表面上の磁力線分布を変え、ターゲットのワイドエロージョン化を図るようにした磁石構造体等を提供する。 - 特許庁

To provide an erosion profiled target which keeps satisfactory uniformity of a film (uniformity of film thickness) throughout the sputtering life of the target, generates few particles, does not deform the target during sputtering, and further has the long life of the target, and to provide a method for manufacturing the target, and a target-backing plate.例文帳に追加

ターゲットのスパッタライフを通じて膜のユニフォーミティ（膜厚の均一性）を良好にするとともに、パーティクルの発生が少なく、スパッタリング中のターゲットの変形がなく、さらにはターゲットの寿命が長いエロージョンプロファイルターゲット、ターゲットの製造方法及びターゲット−バッキングプレートを提供する。 - 特許庁

To provide a target for magnetron sputtering in which the progress of ununiform erosion is suppressed, and whose utilization efficiency is improved.例文帳に追加

不均一なエロージョン進行を抑制し、ターゲットの利用効率を向上させるマグネトロンスパッタリング用ターゲットを提供する。 - 特許庁