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Weblio専門用語対訳辞書での「V GAP」の意味

V GAP

Weblio専門用語対訳辞書はプログラムで機械的に意味や英語表現を生成しているため、不適切な項目が含まれていることもあります。ご了承くださいませ。

「V GAP」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 93



例文

When inter-parted metal back resistance in the gap Gx is represented by Rx(V) as a function of a voltage V[V] and inter-metal back resistance in the gap Gy is represented by Ry(V) as a function of the voltage V[V], Rx(100)/Rx(1) is smaller than Ry(100)/Ry(1).例文帳に追加

ギャップGx間の分断メタルバック間抵抗を電圧V[V]の関数としてRx(V)、前記ギャップGy間のメタルバック間抵抗を電圧V[V]の関数としてRy(V)としたとき、Rx(100)/Rx(1)<Ry(100)/Ry(1)である。 - 特許庁

The band gap of th inclined band gap layer 24 located on the interface of the III-V group semiconductor layer 22 is substantially equal to the band gap of the III-V group semiconductor layer.例文帳に追加

III−V族半導体層(22)との界面における傾斜バンドギャップ層(24)のバンドギャップは、実質的にIII−V族半導体層のバンドギャップに等しい。 - 特許庁

(2) Required fiber quantity Y[g] is calculated based on the volume V [cm^3] of the gap.例文帳に追加

(2)該隙間の体積に基づき必要繊維量Y〔g〕を算出する。 - 特許庁

The V-groove reflects the light which comes in through the gap toward the inside of the housing.例文帳に追加

V溝は、隙間から入射する光を筐体内部に向けて反射する。 - 特許庁

(1) Volume V[cm^3] of the wedge-shaped gap in the joint part is calculated.例文帳に追加

(1)前記ジョイント部の楔型の隙間の体積V〔cm^3〕を算出する。 - 特許庁

A window layer 23 is composed of a second III-V compound semiconductor with a larger band gap than the first III-V compound semiconductor.例文帳に追加

窓層23は、第1のIII−V化合物半導体より大きなバンドギャップを有する第2のIII−V化合物半導体からなる。 - 特許庁

例文

The two kinds of group III-V compound semiconductor layers having GaP as main components are inserted.例文帳に追加

GaPを機軸とする2種類のIII−V族化合物半導体層を挿入する。 - 特許庁

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「V GAP」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 93



例文

The second group III-V compound semiconductor layer is functioned as a light absorption layer, an energy gap of the second group III-V compound semiconductor layer is smaller than that of the first group III-V compound semiconductor layer, and Be or C is used as a p-type dopant in the respective semiconductor layers.例文帳に追加

第2のIII−V族化合物半導体層が光吸収層として機能し、第2のIII−V族化合物半導体層のエネルギーギャップは、第1のIII−V族化合物半導体層のそれより小さく、各半導体層におけるp型のドーパントとしては、Be又はCが用いられる。 - 特許庁

A sealing material 40 is disposed on at least one of the inside of a gap between the outer peripheral edge 35b of the inner casing 35 and the inner side face 30a of the outer casing 30, and a foaming space V side of the gap.例文帳に追加

上記庫内ケーシング(35)の外周端(35b)と上記庫外ケーシング(30)の庫内側面(30a)との隙間内及び該隙間の発泡空間(V)側の少なくとも一方に、シーリング材(40)を配設する。 - 特許庁

The first group III-V compound semiconductor has a band-gap wavelength λ_Bg exceeding 1 μm.例文帳に追加

第1のIII−V化合物半導体は1マイクロメートルを超えるバンドギャップ波長λ_Bgを有する。 - 特許庁

The band gap of the inclined band gap layer 24 decreases more away from the interface of the III-V group semiconductor layer, and the band gap substantially becomes zero or a negative value on the interface of the inclined band gap layer 24 and the electrode layer 23.例文帳に追加

傾斜バンドギャップ層(24)のバンドギャップは、III−V族半導体層(22)との界面から遠ざかるにつれ減少し、傾斜バンドギャップ層(24)と電極層(23)との界面においては実質的に零または負の値となる。 - 特許庁

The first conductivity type layer is provided above the first electrode and below the light-emitting layer and composed of a III-V compound semiconductor having band-gap energy larger than band-gap energy of the light-emitting layer.例文帳に追加

前記第1導電形層は、前記第1電極の上であり前記発光層の下に設けられ、前記発光層のバンドギャップエネルギーよりも大きなバンドギャップエネルギーを有するIII-V族化合物半導体からなる。 - 特許庁

In the second drilling blade, a gap 37 is formed between second drilling blade pieces 36 and 36 which are reverse V-shaped.例文帳に追加

第二掘削刃35は、逆V字状で、第二掘削刃片36、36の間に空隙37が形成される。 - 特許庁

To provide ferromagnetic group III-V compounds in which ferromagnetism can be obtained by using the group III-V compounds (GaAs, InAs, GaP, InP) transmitting light, and a method for controlling the ferromagnetic properties of the ferromagnetic group III-V compounds.例文帳に追加

光を透過するIII-V族系化合物(GaAs, InAs, GaP, InP)を用いて強磁性が得られる強磁性III-V族系化合物の提供、およびその強磁性特性を調整することができる強磁性III-V族系化合物の強磁性特性を調整する方法を提供する。 - 特許庁

例文

A grayscale property corresponding to cell gap thickness and an I/V property of a transistor is measured beforehand, and compensation values are determined so that the grayscale data can be compensated to proper grayscale data from the cell gap, the I/V property of the transistor, and reference grayscale data.例文帳に追加

セルギャップの厚さやトランジスタのI/V特性に対応する階調特性を予め測定しておき、セルギャップやトランジスタのI/V特性と基準となる階調データから適切な階調データに補正できるように補正値を定める。 - 特許庁

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