Wafers processing equipmentとは 意味・読み方・使い方

To provide a method of efficiently cleaning a processing equipment with a small number of stages at a low cost without causing fluctuation in the capacity of the processing equipment and the quality of wafers after processing, and also to provide a processing equipment for which such cleaning as above can be performed.例文帳に追加

少ない工程数かつ低コストで効率よく処理装置をクリーニングでき、処理装置の能力や処理後のウエハの品質に変動をきたすことなくクリーニングする方法、及びそのようなクリーニングを行なうことのできる処理装置を提供する。 - 特許庁

Silicon wafers W in which beveling process is finished is transferred one by one to single wafer processing type both sides polishing equipment by a robot hand R.例文帳に追加

面取り工程が終了したシリコンウェーハＷを、ロボットハンドＲにより、枚葉式の両面研磨装置に１枚ずつ移送する。 - 特許庁

This equipment is configured in a way that two wafers, one unprocessed wafer and one processed wafer, can be carried together between the load lock chamber and processing chamber.例文帳に追加

この装置は、ロードロックチャンバと処理チャンバとの間で、二つのウエハ、即ち、一つの未処理ウエハ及び一つの処理済みウエハを同時に運ぶように適合される。 - 特許庁

The heat treatment equipment 1 comprises a processing vessel 11 for containing a plurality of wafers W, a plurality of heaters 31-33, and a plurality of temperature sensors S1-S5 and stores a heat model.例文帳に追加

熱処理装置１は、複数のウエハＷを収容する処理容器１１と複数のヒータ３１〜３３と複数の温度センサＳ１〜Ｓ５とを備え、熱モデルを記憶する。 - 特許庁

To provide a method and processing equipment including a wafer holder, which can constantly process more than 10,000 pieces of the wafers with high planarizing performance, scratch free, narrow edge exclusion, and high uniformity.例文帳に追加

高い平坦化性能，スクラッチフリー、エッジイクスクルージョンが狭く、高い均一性を被加工ウェハ１００００枚以上持続可能なウェハホルダを含む加工装置及び、加工方法を提供することである。 - 特許庁

The semiconductor manufacturing equipment comprises a plurality of manufacturing devices 2 for receiving and processing wafers in each lot, a plurality of stockers 3 for storing respective lots, a carrying device 4 for carrying each lot, and a host computer 5 for controlling these devices.例文帳に追加

ロット単位でウェハを受け取って処理する複数の製造装置２と、ロットを保管する複数のストッカ３と、ロットを運ぶ搬送装置４と、これらを制御する上位計算機５とを有する。 - 特許庁

To provide semiconductor processing equipment and methods, especially, equipment and methods for sustained high-volume production of Group III-V compound semiconductor material suitable for fabrication of optic and electronic components, for use as substrates for epitaxial deposition, for wafers and so forth.例文帳に追加

本発明は、半導体処理装置および方法の分野に関し、特に、エピタキシャル堆積用の基板としてウェハーなどに使用される、光学および電子部品の製作に適切な、第ＩＩＩ−Ｖ族化合物半導体材料の持続的大量生産のための方法および装置を提供する。 - 特許庁