absorbed electronとは 意味・読み方・使い方

Light having entered from a transparent substrate 10 side is absorbed by dyes of an electron capture-dye layer 30 and excites the dyes.例文帳に追加

透明基板１０側から入射した光は、電子捕集−色素層３０の色素によって吸収され、色素を励起する。 - 特許庁

A secondary signal 23 such as a secondary electron or a reflecting electron generated from the sample 12 is absorbed into the accelerating cylinder 9 with the electric field (decelerating field) immediately before the sample, and is detected by a secondary electron detecting apparatus positioned over the accelerating cylinder 9.例文帳に追加

試料１２から発生された二次電子や反射電子等の二次信号２３は、試料直前の電界（減速電界）で加速円筒９内に吸引され、加速円筒９より上方に配置された二次電子検出器により検出される。 - 特許庁

In this case, the light which is not absorbed by the dyes and has transmitted the electron capture-dye layer 30 and reached the catalyst layer 60 is diffused and reflected by a rough surface of the catalyst layer 60 and a part of the reflection light is absorbed by the dyes.例文帳に追加

このとき、色素に吸収されず、電子捕集−色素層３０を透過して触媒層６０に到達した光は、触媒層６０の粗面で拡散反射し、反射光の一部は色素に吸収される。 - 特許庁

The detecting light suppressed from emitting to the outside is reflected by the exposed surface of the electron emitting layer 4 and enters the optical absorption layer 3 again and is absorbed.例文帳に追加

外部放出が抑制された被検出光は、電子放出層４の露出表面で反射し、光吸収層３に再び入射して吸収される。 - 特許庁

A photodetector has a light absorbing region (1), in which individual incident photon is absorbed for dealing with corresponding electron-hole pairs.例文帳に追加

本願発明の光検出器は、対応する電子正孔対を作成するために個々の入射光子を吸収する光吸収領域（１）を有する。 - 特許庁

For a power source device for collecting the charge of the electron beams absorbed by collision with the forming aperture 7, a power source device is sufficient in which correspondence voltage is low and small.例文帳に追加

よって、成型アパーチャ７に衝突して吸収される電子線の電荷を回収するための電源装置は、対応電圧が低い小さなもので済む。 - 特許庁

When light is directed from a surface, light of short wavelength is absorbed by the layer 7, and electron and hole are acquired from the electrode 11 and the electrode 8, respectively.例文帳に追加

光が表面から入射すると短波長の光が層７で吸収され電子および正孔が夫々電極１１、電極８から取り出される。 - 特許庁

The electron beam preferably has an absorbed dose of 10-500 kGy, and the resin die is preferably removed at 130°C or below.例文帳に追加

電子線は、吸収線量が、１０ｋＧｙ以上５００ｋＧｙ以下が好ましく、樹脂型の除去は、１３０℃以下で実施する態様が好ましい。 - 特許庁