boron applicationとは 意味・読み方・使い方

Thereafter, a boron (B) application diffusion source is applied by spin coating to the surface of the silicon substrate 20.例文帳に追加

次に、ボロン（Ｂ）の塗付拡散源をシリコン基板２０の表面にスピンコートにより塗布する。 - 特許庁

A calcium/boron complex oxide-containing magnesium oxide composition containing pre-formed calcium/boron complex oxide: Ca_mB_2O_m+3 (m=1-3) and its production method and its application, are provide.例文帳に追加

予め形成したカルシウム・ホウ素複合酸化物：Ｃａ_ｍＢ_２Ｏ_ｍ＋３（ｍ＝１〜３）を含むカルシウム・ホウ素複合酸化物含有酸化マグネシウム組成物及びその製造方法、並びにその用途である。 - 特許庁

In addition, the combination of materials of the rare earth-transition metal-boron (RE-TM-B) powder produced by the rapid solidification process and an application process are also disclosed.例文帳に追加

さらに、急速凝固によって生成された希土類−遷移金属−ホウ素(RETM−B)粉材料の組合せおよび塗布方法を規定する。 - 特許庁

Such glass does not release any semiconductor poison such as iron, arsenic and boron, can be used for high temperature processing, and especially, is suitable for application to Cd-Te-photovoltaic power generation, application to CIS-photovoltaic power generation, or application to CIGS-photovoltaic power generation.例文帳に追加

これらガラスは、半導体毒、例えば鉄、ヒ素及びホウ素を放出することなく、高温処理に使用することができ、かつとりわけＣｄ−Ｔｅ−太陽光発電適用もしくはＣＩＳ−太陽光発電適用ないしはＣＩＧＳ−太陽光発電適用に適当である。 - 特許庁

To provide a boron-containing wastewater treatment method which enables the sure application to a strict effluent standard value with a low-cost device and generation of a small amount of sludge.例文帳に追加

安価な設備で、厳しい排水基準値にも確実に適用でき、かつ発生する汚泥量が少ないホウ素化合物を含む排水の処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a short optical glass which does not contain silver, copper, thallium, lead or boron, is suitable for application fields of especially imaging, projection, telecommunication, optical communication technology, and/or laser technology, further especially suitable for fiber application (light guide or imaging guide).例文帳に追加

銀、銅、タリウム、鉛またはホウ素を含まず、特に画像化、投影、電気通信、光通信技術、および／またはレーザー技術の応用分野に好適であり、また特にファイバー適用（光ガイドまたはイメージングガイド）に好適な、短い光学ガラスを開示する。 - 特許庁

To provide a high pressure phase boron nitride sintered compact having a strong bonding or retentive force even at a high temperature, particularly in the application to a throw-away tip, and also provide its effective production method.例文帳に追加

スローアウェイチップなどの用途で特に高温においてもかかる結合力乃至保持力を示す高圧相窒化ホウ素焼結体、及びその効果的な製造法を提供する。 - 特許庁

The element isolating insulation film 4 is constituted of a 4-layered structure, in which a first silicon oxide film 4a, a second silicon oxide film 4b consisting of BPSG (boron phosphorous silicate glass) film, for example, a discard block film 4c consisting of silicon nitride film, for example, and an application type insulating film 4d which are laminated sequentially.例文帳に追加

素子分離絶縁膜４が、第１のシリコン酸化膜４ａ、例えばＢＰＳＧ膜からなる第２のシリコン酸化膜４ｂ、例えばシリコン窒化膜からなる不要物ブロック膜４ｃ、塗布型絶縁膜４ｄが順次積層された４層構造に構成されている。 - 特許庁