chromelessとは 意味・読み方・使い方

A CPL (chromeless phase lithography) part and a halftone part are formed on a glass substrate 1S of a mask 1.例文帳に追加

マスク１のガラス基板１Ｓには、ＣＰＬ部と、ハーフトーン部とが形成されている。 - 特許庁

To provide a chromeless phase mask and a method for producing the chromeless phase mask that can improve CD performance significantly and can keep a light-shielding film on a non-engraved area with high accuracy.例文帳に追加

ＣＤパフォーマンスの大幅な改善が可能であり、且つ精度良く非掘り込み部上に遮光膜を残すことが可能なクロムレス位相シフトマスク及びクロムレス位相シフトマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a chromeless phase shift mask that can significantly improve CD (Critical Dimension) performance, and to provide a method for manufacturing the mask.例文帳に追加

CDパフォーマンスが大幅に改善されたクロムレス位相シフトマスク及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

The chromeless phase shift mask includes a mask substrate and a plurality of phase shifters formed by etching the mask substrate.例文帳に追加

マスク基板と、このマスク基板をエッチングして設けられた複数の位相反転部と、を備えるクロムレス位相反転マスク。 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR DECOMPOSING SEMICONDUCTOR DEVICE PATTERN INTO PHASE AND CHROME REGIONS FOR CHROMELESS PHASE LITHOGRAPHY例文帳に追加

クロムレス相リソグラフィのために半導体デバイス・パターンを相領域とクロム領域に分解するための方法および装置 - 特許庁

The optimum mask may be used to create a CPL (Chromeless Phase Lithography) mask by assigning areas of minimum transmission in an optimum transmission mask to a -1, and areas of maximum transmission to a +1.例文帳に追加

最適マスクは、最適透過マスクの最小透過領域を−１に、最大透過領域を＋１に割り当てることにより、ＣＰＬマスクを生成するため使用することができる。 - 特許庁

To provide a treatment liquid capable of obtaining a chromeless stress coating having both excellent moisture absorption resistance and high iron loss reduction effect by sufficient tension application.例文帳に追加

優れた耐吸湿性と十分な張力付与による高い鉄損低減効果を兼ね備えるクロムレス張力被膜を得ることできるクロムレス張力被膜用処理液を提供する。 - 特許庁

To manufacture a phase shift mask with high controllability, high accuracy and high quality, which contains a mixture of a chromeless transmissive phase shifter by engraving a quartz substrate or an edge enhanced phase shifter.例文帳に追加

石英基板を彫り込んだクロムレスの透過型位相シフタあるいはエッジ強調型位相シフタが混在して含む位相シフトマスクを制御性よく、高精度、高品質に製造する。 - 特許庁