critical scatteringとは 意味・読み方・使い方

Tilt angles of the scattering layers 51 are smaller than the critical angle, and the tilt angles thereof are different from one another.例文帳に追加

これら散乱層５１の傾斜角度は臨界角未満であり、かつ互いにその傾斜角度は異なっている。 - 特許庁

Light, when hitting the lower face 75, is reflected again at an angle larger than the critical angle, or is scattered at a scattering center 78 on the lower face 75.例文帳に追加

光は、下面７５に当たると、再び臨界角より大きな角度で反射するかまたは下面７５上の散乱中心７８によって散乱される。 - 特許庁

Emission light is refracted on an inclined surface at the light scatter 11, and is scattered by the scattering particles 14 inside the light scatter 11 for changing to an angle less than a critical angle.例文帳に追加

発光光は、光散乱部１１の斜面で屈折したり、光散乱部１１の内部の散乱粒子１４により散乱されて臨界角未満の角度に変化する。 - 特許庁

To provide an EL display emitting, to the outside at low scattering, light incident on a light transmitting substrate at an angle less than a critical angle, of lights emitted from a luminescent layer, emitting to the outside light incident on the light transmitting substrate at the critical angle or more, and enhancing brightness in the front direction.例文帳に追加

発光層で発光した光のうち臨界角未満で光透過性基板に入射した光は低散乱で外部に放出でき、しかも臨界角以上で光透過性基板に入射した光を外部に放出でき、正面方向の輝度を向上できるＥＬディスプレイの提供。 - 特許庁

To provide improved complementary phase shift mask (c:PSM) imaging techniques including a method in which scattering bars are provided on the trim mask in order to allow better CD (critical dimensions) uniformity to be achieved in the double exposure process.例文帳に追加

二重露光プロセスでＣＤの均一性を改良するために、トリムマスク上に散乱バーを設ける方法を含む改良型の相補型移相マスク（ｃ：ＰＳＭ）描像技術について述べる。 - 特許庁

The different scattering areas on the mask is capable of forming an SCALPEL pattern on a wafer by improved critical dimensioned(CD) control, reduced aberration feature formation, and improved yield.例文帳に追加

マスク上の異なる散乱領域は、改善されたクリティカル寸法（ＣＤ）制御，低減された収差フィーチャ形成および改善された歩留りで、ＳＣＡＬＰＥＬパターンをウェハ上に形成することを可能にする。 - 特許庁

Nanodiamond containing a graphite phase, in which 95% or more of the particles have a particle diameter of not more than 1,000 nm measured by a dynamic light-scattering method, is purified by a sub-critical or supercritical treatment in a fluid where oxygen and water and/or alcohol are present together, and processed into fine particles.例文帳に追加

グラファイト相を含有し、動的光散乱法で求めた粒径の９５％以上が１，０００ｎｍ以下のナノダイヤモンドを、酸素と水及び／又はアルコールとが共存する流体中亜臨界処理又は超臨界処理により精製し、及び微粒化する。 - 特許庁