double diffusionとは 意味・読み方・使い方

To improve directivity and diffusion effect for high frequencies in a full-range type double cone speaker.例文帳に追加

フルレンジ型ダブルコーンスピーカでの高域の指向特性及び分散効果を改善する。 - 特許庁

LATERAL DOUBLE-DIFFUSION FIELD EFFECT TRANSISTOR, AND INTEGRATED CIRCUIT HAVING SAME例文帳に追加

横型二重拡散型電界効果トランジスタおよびそれを備えた集積回路 - 特許庁

One of the source/drain of each of the above-mentioned double diffusion type transistors is individually formed in each transistor, and the n double diffusion type transistors share the other source/drain.例文帳に追加

前記各二重拡散トランジスタのソース／ドレインのうちの一つは各トランジスタに個別的に形成され、他の一つのソース／ドレインは前記ｎ個の二重拡散トランジスタが共有する。 - 特許庁

The drain of the transistor 19 has a double diffusion construction which is composed of a first P-type drain diffusion layer 5d and a second P-type drain diffusion layer 11d.例文帳に追加

トランジスタ１９のドレインは第１Ｐ型ドレイン拡散層５ｄと第２Ｐ型ドレイン拡散層１１ｄからなる二重拡散構造を備えている。 - 特許庁

To provide a dopant diffusion barrier of a double layer, where a barrier layer to block internal diffusion is provided, diffusion of a dopant is blocked, even in the if there is absence of p-n junction formation, and thin-type does not prevent flow of current.例文帳に追加

内部拡散を阻止するバリヤ層を備え、ｐｎ接合の形成がなくてもドーパントの拡散を阻止でき、薄型であるために電流の流れを妨げることのない２重層のドーパント拡散バリアを提供する。 - 特許庁

To provide a high-voltage transistor whose source/drain diffusion region can become a double diffusion drain junction structure, without forming a space oxide film by using a silicon nitride film as a protection film at impurity implantation, and for which the source/drain diffusion region of a more stabilized double diffusion structure can be formed by a one-time pattern process and an ion implantation process.例文帳に追加

高電圧用トランジスタの製造方法においてシリコン窒化膜を不純物注入時に防護膜とすることによってスペース酸化膜を形成しなくてもソース／ドレイン拡散領域を二重拡散ドレインジャンクション構造とし一度のパターン工程及びイオン注入工程により安定した二重拡散構造のソース／ドレイン拡散領域を形成する。 - 特許庁

In the vertical MOS semiconductor device 1, a source region is formed of double diffusion structures 5 and 6 of different impurity concentrations.例文帳に追加

本発明の縦型ＭＯＳ半導体装置１では、ソース領域を不純物濃度の異なる二重拡散構造５、６により形成する。 - 特許庁

An Nch-DMOS(N-channel double diffusion metal oxide semiconductor) ND1 of common gate configuration is used for a high breakdown voltage resistor to transfer the current signal to a low side.例文帳に追加

その電流信号を、ゲート接地構成のＮｃｈ−ＤＭＯＳトランジスタＮＤ１を高耐圧抵抗として用いてローサイドに伝達する。 - 特許庁