drying markとは 意味・読み方・使い方

To prevent the generation of a water mark due to micro water drop by drying a substrate without heating the substrate itself.例文帳に追加

基板自体を加熱することなく基板を乾燥させることによって、微小液滴によるウォーターマークの発生を抑制する。 - 特許庁

To provide a hanger agilely drying clothes immediately after the clothes are washed, leaving no mark of the hanger on the clothes, and being capable of being easily set inside the clothes.例文帳に追加

洗濯直後の衣服を迅速に乾燥させ、当該衣服にハンガーの跡が残らず、衣服に容易に装着できるハンガーを提供すること。 - 特許庁

To provide a substrate drying apparatus which will not generate organic contamination, disperses with liquid waste disposal, and prevents formation of a water mark and growth of a natural oxide film, while fully drying the substrate.例文帳に追加

有機物汚染が発生することなくかつ廃液処理が不要であるとともに、ウォーターマークの形成および自然酸化膜の成長を防止しつつ基板を十分に乾燥させることができる基板乾燥装置を提供することである。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method for drying a substrate capable of preventing liquid drops from remaining on the substrate to suppress the generation of a water mark more effectively than Marangoni drying.例文帳に追加

マランゴニ乾燥に比べて、基板に液滴が残留することをより効果的に防止し、ウォーターマークの発生を抑えることができる基板乾燥装置及び基板乾燥方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of drying, with which formation of a water mark can be prevented by conducting uniform drying, even a hydrophobic surface without using a large amount of organic solvent.例文帳に追加

疎水化された表面に対しても、大量の有機溶剤を使用せずに均一に乾燥を行い、ウォーターマークの形成を防止できる乾燥方法を提供する。 - 特許庁

To prevent the generation of a water mark during dry treatment in substrate-drying apparatus for drying a substrate, where treatment liquid such as demineralized water and rinse adheres to the upper surface of the substrate in the shape of a liquid film.例文帳に追加

その上面に純水やリンス液などの処理液が液膜状に付着する基板を乾燥させる基板乾燥装置、基板乾燥方法および基板のシリコン酸化膜除去方法において、その乾燥処理中にウォータマークが発生するのを防止する。 - 特許庁

To provide a method and apparatus for drying rapidly a semiconductor wafer in a resting state in a drying apparatus without using a spin dryer and without particles adhesion on the surface of the semiconductor wafer and a water mark generation on the semiconductor wafer and a holding cassette.例文帳に追加

半導体ウエハー表面にパーティクルの付着無く、半導体ウエハー及び収納カセットにウォーターマークが発生せず、スピンドライヤーを使用せず乾燥装置内で静止状態で迅速に半導体ウエハーを乾燥する方法及びその乾燥装置を提供する。 - 特許庁

To provide a drying method of a silicon wafer, well finished within a short period of time without taking the silicon wafer out of a wafer carrier and without generating water mark, in the drying of the silicon wafer wetted by water or an organic solvent.例文帳に追加

水や有機溶剤で濡されているシリコンウェハの乾燥において、シリコンウェハをウェハキャリアから出すことなく、ウオーターマークの発生することない、短時間で良好な仕上がりのシリコンウェハの乾燥方法を提供すること。 - 特許庁