「drying mark」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To provide a method of drying, with which formation of a water mark can be prevented by conducting uniform drying, even a hydrophobic surface without using a large amount of organic solvent.例文帳に追加

疎水化された表面に対しても、大量の有機溶剤を使用せずに均一に乾燥を行い、ウォーターマークの形成を防止できる乾燥方法を提供する。 - 特許庁

After that, spinning dry processing is executed, thereby drying the wafer W while suppressing a water mark from occurring.例文帳に追加

その後、スピンドライ処理を実施することにより、ウォーターマークの発生を抑制しつつウエハＷを乾燥させることができる。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method for drying a substrate capable of preventing liquid drops from remaining on the substrate to suppress the generation of a water mark more effectively than Marangoni drying.例文帳に追加

マランゴニ乾燥に比べて、基板に液滴が残留することをより効果的に防止し、ウォーターマークの発生を抑えることができる基板乾燥装置及び基板乾燥方法を提供する。 - 特許庁

To prevent the generation of a water mark due to micro water drop by drying a substrate without heating the substrate itself.例文帳に追加

基板自体を加熱することなく基板を乾燥させることによって、微小液滴によるウォーターマークの発生を抑制する。 - 特許庁

Here, no cleaning or drying processes are performed, since in the case it is dry-etching, and no water mark occurs.例文帳に追加

この場合、ドライエッチングであるので、洗浄工程及び乾燥工程は行わず、したがってウォータマークが発生することはない。 - 特許庁

To provide a drying method of a silicon wafer, well finished within a short period of time without taking the silicon wafer out of a wafer carrier and without generating water mark, in the drying of the silicon wafer wetted by water or an organic solvent.例文帳に追加

水や有機溶剤で濡されているシリコンウェハの乾燥において、シリコンウェハをウェハキャリアから出すことなく、ウオーターマークの発生することない、短時間で良好な仕上がりのシリコンウェハの乾燥方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a hanger agilely drying clothes immediately after the clothes are washed, leaving no mark of the hanger on the clothes, and being capable of being easily set inside the clothes.例文帳に追加

洗濯直後の衣服を迅速に乾燥させ、当該衣服にハンガーの跡が残らず、衣服に容易に装着できるハンガーを提供すること。 - 特許庁

To provide a cathionic electrodeposition coating composition which can prevent the generation of drying ununiformity and a water mark without adversely affecting other performances such as throwing power.例文帳に追加

つきまわり性などの他の性能に悪影響することなく、乾きムラおよび水跡の発生を防止し得るカチオン電着塗料組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a drying method and cleaning equipment for a board which reduce the formation of a water mark, charging phenomenon, and the possibility of ignition.例文帳に追加

ウォータマークの発生や帯電現象を低減し、さらに引火の可能性も低減できるようにした基板の乾燥方法及び洗浄装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing printed wiring board, with which a highly accurate symbol mark of small thickness can be formed at high resolutions with a drying processing.例文帳に追加

ドライ処理で膜厚が薄く高解像度で高精度なシンボルマークが形成できるプリント配線板の作製方法を提供しようとするものである。 - 特許庁

To provide a substrate drying apparatus which will not generate organic contamination, disperses with liquid waste disposal, and prevents formation of a water mark and growth of a natural oxide film, while fully drying the substrate.例文帳に追加

有機物汚染が発生することなくかつ廃液処理が不要であるとともに、ウォーターマークの形成および自然酸化膜の成長を防止しつつ基板を十分に乾燥させることができる基板乾燥装置を提供することである。 - 特許庁

To provide a recording apparatus that can suppress occurrence of a drying mark efficiently without upsizing the apparatus, and to provide a control method thereof.例文帳に追加

本発明の課題は、装置の大型化を招くことなく効果的に乾燥むらの発生を抑制できる記録装置及びその制御方法を提供することにある。 - 特許庁

As the wafer can be dried at a lower speed rotation than spin drying, it is possible to prevent the damages or the contamination of the wafer, or the occurrence of the water mark, while removing the natural oxide film of the wafer.例文帳に追加

スピン乾燥に比べてウエハを低速回転で乾燥できるので、ウエハの破損や汚染、ウオータマークの発生を防止しつつウエハの自然酸化膜を除去できる。 - 特許庁

To provide a device and a method for treating a substrate in which an increase in drying cost can be controlled without generating a water mark.例文帳に追加

ウォーターマークを発生させることなく、しかも乾燥処理に要するコストの上昇を抑制することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁

To prevent the generation of a water mark during dry treatment in substrate-drying apparatus for drying a substrate, where treatment liquid such as demineralized water and rinse adheres to the upper surface of the substrate in the shape of a liquid film.例文帳に追加

その上面に純水やリンス液などの処理液が液膜状に付着する基板を乾燥させる基板乾燥装置、基板乾燥方法および基板のシリコン酸化膜除去方法において、その乾燥処理中にウォータマークが発生するのを防止する。 - 特許庁

To provide a method and apparatus for drying rapidly a semiconductor wafer in a resting state in a drying apparatus without using a spin dryer and without particles adhesion on the surface of the semiconductor wafer and a water mark generation on the semiconductor wafer and a holding cassette.例文帳に追加

半導体ウエハー表面にパーティクルの付着無く、半導体ウエハー及び収納カセットにウォーターマークが発生せず、スピンドライヤーを使用せず乾燥装置内で静止状態で迅速に半導体ウエハーを乾燥する方法及びその乾燥装置を提供する。 - 特許庁

To provide a game machine in which a peculiar identification mark can be applied on parts by a simple method, and in addition, the drying time of the printed surface is short, the manufacturing cost can be reduced, and at the same time, the identification mark can be applied to sections which are hard to altered.例文帳に追加

部品に簡単な方法で固有の識別表示を施すことができ、しかもその印刷面の乾燥時間が短く、製造コストの低減が図れるとともに、改竄されにくいところに識別表示を施すことができる遊技機を提供する。 - 特許庁

To provide a slit coat-type application method which enables the even application of a coating solution onto the surface of a substrate having a predetermined shape of recess and preventing the drying mark and shrink mark of the coating solution and a preferable electronic device substrate used for the slit coat-type application method.例文帳に追加

所定形状の凹部を有する基板の表面に塗布溶液を均一に塗布することができ、塗布溶液の乾燥むらやひけを防止することができるスリットコート式塗布方法、及びこのスリットコート式塗布方法に用いて好適な電子デバイス用基板を提供する。 - 特許庁

To provide a chemical solution for preparing an alcoholic sterilizing sheet being easy to wipe off something, good to remove dirt, and rapidly drying after wipe-off, not leaving any wiping mark, not causing wiping unevenness, and not producing an intense alcoholic odor.例文帳に追加

拭き取りがスムーズで、汚れ落ちが良好で、拭き取り後の乾燥が速く、拭き跡が残らず、拭きむらがなく、そしてアルコール臭がきつくない、アルコール除菌シートを得るための薬液を提供すること。 - 特許庁

In addition, air flow containing the water vapor flows in the conveying direction (an arrow mark A direction) along the faces of respective recording heads 22K, 22C, 22M, 22Y, 22 and 22 to hold the respective faces at a humidity of a specified value or higher without drying the respective faces.例文帳に追加

また、上記の水蒸気を含んだ気流が各記録ヘッド２２Ｋ，２２Ｃ，２２Ｍ，２２Ｙ，２２，２２のフェイス面に沿って搬送方向（矢印Ａ方向）に流れることにより、各フェイス面を乾燥させずに規定値以上の湿度に保つ。 - 特許庁

To provide a drying system and method of flat-plate-form objects whereby such flat-plate-form objects as semiconductor wafers can be so dried in their clean states as to leave no water mark and no stain over their whole surfaces after the washing of them.例文帳に追加

洗浄後の半導体ウエーハ等の平板状物の全面にわたってウオーターマークやステインを残さず、清浄な状態で乾燥させることができる平板状物の乾燥システム及び乾燥方法を提供する。 - 特許庁

To provide a thermoplastic resinous molded article used for coating which has a small extent of such deformation as warping, shrink mark and recess of the molded article after heat-drying (baking) in a coating process and which is excellent in impact resistance, moldability and electrical conductivity.例文帳に追加

塗装工程における加熱乾燥（焼付け）後の成形品の変形（反り、ひけ、へこみなど）が小さく、かつ、耐衝撃性、成形性、導電性に優れた塗装用熱可塑性樹脂成形品を提供すること。 - 特許庁

To provide a method and a device for treating a substrate inhibiting the generation of a water mark by a drying treatment by preferably forming a treating liquid layer on the top face of the hydrophobic substrate.例文帳に追加

本発明の目的は、疎水性基板の上面に好適に処理液層を形成することによって、乾燥処理にてウォーターマークの発生を抑制する基板の表面処理方法、及び、基板の表面処理装置を提供することにある。 - 特許庁

To efficiently, safely and smoothly convey in/out a substrate by roller conveyance and to suppress a transfer mark of a substrate contact part from remaining on a coating film formed on the substrate as minimum as possible while supporting the substrate by a pin with an arbitrary thickness during vacuum drying processing.例文帳に追加

コロ搬送により基板の搬入出を効率よく安全かつスムースに行い、減圧乾燥処理中に任意の太さのピンで基板を支持しつつ基板上の塗布膜に基板接触部の転写跡が付くのを可及的に抑える。 - 特許庁

To provide an apparatus for marking a defect, which can detect the defect in a long sheet product transferred to the longitudinal direction by using an inspection device, and can place a mark at the detected defect position by using an oil-based marking pen, without causing a decrease in the marking property due to drying of the tip of the pen.例文帳に追加

長さ方向に搬送される長尺のシート状製品の欠陥を検査装置により検出し、ペン先の乾燥によるマーキング性の低下を招くことなく、検出された欠陥部分に油性マーキングペンを用いてマーキングを施すことができる欠陥マーキング装置を提供する。 - 特許庁

The processing apparatus for the semiconductor wafer which grinds or polishes a reverse surface of the semiconductor wafer having a mark indicating crystal orientation at an outer periphery includes a positioning means having a rotatable holding table and detecting the mark of the semiconductor wafer to position the semiconductor wafer in the predetermined direction, and a spinner cleaning device having a spinner table for cleaning or spin-drying the semiconductor wafer having been ground or polished.例文帳に追加

外周に結晶方位を示すマークを備えた半導体ウエーハの裏面を研削又は研磨する半導体ウエーハの加工装置であって、回転可能な保持テーブルを有し、半導体ウエーハのマークを検出して半導体ウエーハを所定の向きに位置付ける位置合わせ手段と、研削又は研磨された半導体ウエーハを洗浄及びスピン乾燥するスピンナテーブルを有するスピンナ洗浄装置を備えている。 - 特許庁

In the master for thermal stencil printing, constituted of at least the thermoplastic resin film having the porous resin film constituted by applying and drying the fluidized body on the thermoplastic resin film and the porous resin film, the end mark is produced on the side of the porous resin film employing an aqueous coating.例文帳に追加

熱可塑性樹脂フィルム上に、流動体を塗布、乾燥して成る多孔性樹脂膜を有する少なくとも熱可塑性樹脂フィルムと多孔性樹脂膜で構成される感熱孔版印刷用マスターにおいて、多孔性樹脂膜側に水性塗料を用いてエンドマークが作成されていることを特徴とする感熱孔版印刷用マスター。 - 特許庁

By displaying three items, that is, an ideal state, an over-drying state, and an excessive water state on the panel (1a), any person who is ready to charge garbage into the machine (1) can adjust the amount and water content of the garbage while watching the character mark on the panel (1a) to always hold an ideal microbial environment.例文帳に追加

生ごみ処理機（１）の外部から見えるところにインジケータパネル（１ａ）を設け、理想的状態乾燥過多、水分過多の三種類に分けてキャラクター表示することにより、誰かが生ごみを投入しようとした時、インジケーターパネル（１ａ）のキャラクターマーク表示を見ながら次に投入する生ごみの量や水分状態を投入者が調整でき、常に理想的な微生物環境に誘導していくことができる。 - 特許庁