dual solutionとは 意味・読み方・使い方

A gate electrode 131 is formed by using a dual metal layer consisting of copper and a metal which has satisfactory contact characteristics with the substrate and whose pattern solution does not affect the substrate and a source electrode 149 and a drain electrode 151 are formed by using a dual metal layer consisting of copper and a metal by which reaction of a lower ohmic contact layer and copper is prevented.例文帳に追加

ゲート電極１３１は、銅及び基板と接触特性が良好であってパターン溶液が基板に影響を与えない金属の二重金属層で形成し、ソース電極１４９及びドレイン電極１５１は、銅及び下部オーミックコンタクト層と銅との反応を防ぐことができる金属の二重金属層で形成する。 - 特許庁

The dual phase structure is obtained preferably by performing cold working to a steel sheet subjected to solution treatment so as to be held to 950 to 1,100°C, and thereafter to be cooled to ≤500°C at a cooling rate of ≥10°C/sec.例文帳に追加

その複相組織は、９５０〜１１００℃に保持した後５００℃以下の温度まで冷却速度１０℃／ｓｅｃ以上で冷却した溶体化処理鋼板を冷間加工することによって得られるものであることが好ましい。 - 特許庁

A dual problem calculation part 102 obtains the use frequency of each of the blocks and the added blocks included in the initial blocks when additional blocks are determined and the additional blocks are added to the initial blocks, and calculates an optimal solution of the method of allocating a product in the base metal again.例文帳に追加

双対問題算出部１０２は、追加ブロックが決定された場合、初期ブロック群に追加ブロックを追加した場合における、初期ブロック群に含まれる各ブロック及び追加ブロックの使用回数を求めて前記母材に対する製品の割り当て方法の最適解を再度算出する。 - 特許庁

This medical dual chamber container 1 is so constituted as to have suspension means 10 having suspension holes 12 in both of the front face and the back face of either of the storage chambers filled with the medical solution and the medical agent, superposing the both-side suspension holes allowing their abutment after the communicating operation and suspending it.例文帳に追加

薬液や薬剤を充填した収容室のいずれかの前面及び背面の両側に、懸垂孔１２を有する懸垂手段１０を設けて、連通操作後に当接可能となる両側の懸垂孔同士を重ね合わせて吊り下げる構成の医療用複室容器１とした。 - 特許庁

A dual problem operation part 102 operates a predetermined evaluation function representing the entire length of the base metal when initial blocks are used to obtain the use frequency of blocks included in the initial blocks, and calculates an optimal solution of an allocation method of a product to the base metal.例文帳に追加

双対問題演算部１０２は、初期ブロック群を用いた場合における母材全体の長さを表す所定の評価関数を演算することにより、初期ブロック群に含まれる各ブロックの使用回数を求めて前記母材に対する製品の割り当て方法の最適解を算出する。 - 特許庁

In the manufacturing process of a compound dual wavelength laser including two laser structures, or red and infrared, within a single chip, a GaAs substrate 1 is cleaned, before a second epitaxial growth, in such cleaning liquid as containing sulphuric acid 97 wt%, hydrogen peroxide solution 30 wt%, and water at the ratio of 1:1:50-250, at 20-25°C for 20-50 seconds.例文帳に追加

１チップ内に赤色と赤外の二つのレーザ構造を有する化合物二波長レーザの製造工程において、二回目のエピタキシャル成長前のＧａＡｓ基板１に対する洗浄の際、洗浄液を硫酸９７ｗｔ％、過酸化水素水３０ｗｔ％、水、１：１：５０〜２５０の割合で、温度２０〜２５℃にて２０〜５０秒処理する。 - 特許庁