ethoxyethylとは 意味・読み方・使い方

Especially, a good cycle retention rate and a good initial discharging capacity are obtained when non-cyclic carbonate is a compound chosen from 2-methoxyethylmethyl- carbonate, 2-ethoxyethylmethyl-carbonate, 2-methoxyethylethyl-carbonate, 2- ethyoxyethylethyl-carbonate, 2-bis(ethoxymethyl)carbonate, and 2-bis(ethoxyethyl) carbonate.例文帳に追加

特に、非環状炭酸エステルが、２−メトキシエチルメチルカーボネート、２−エトキシエチルメチルカーボネート、２−メトキシエチルエチルカーボネート、２−エトキシエチルエチルカーボネート、ビス（２−メトキシエチル）カーボネート、ビス（２−エトキシエチル）カーボネートからなる郡より選択された少なくとも１種であるとサイクル保持率、及び初期放電容量が特に良好である。 - 特許庁

When a phenolic compound having hydroxy group protected by a group selected from among 1-ethoxyethyl group, 1-isobutoxyethyl group, t-butoxycarbonyloxy group and 1-cyclohexyloxyethyl group is synthesized by reacting an enol ether with a high molecular phenolic compound, and the high molecular phenolic compound having 97% purity is used as the high molecular phenolic compound.例文帳に追加

エノールエーテルを高分子フェノール性化合物を反応させて、水酸基が１−エトキシエチル基、１−イソブトキシエチル基、ｔ−ブトキシカルボニルオキシ基及び１−シクロヘキシルオキシエチル基から選ばれた基で保護されたフェノール性化合物を合成するにあたり、高分子フェノール性化合物として純度が９７％以上のものを用いる。 - 特許庁

The intermediate compound is useful for a total synthesis of a vindoline of general formula A (R1 is H, OH, an alkoxy group, a benzenesulfonyloxy group or an alkylsulfonyloxy group; R2 is a 1,1- dimethylethoxycarbonyl group or acetyl group; R3 is an alkyl group; R4 is benzyl or a substituted benzyl group; R5 is H, a tetrahydropyranyl group, ethoxyethyl group, or the like).例文帳に追加

一般式Ａ（Ｒ^1はＨ、ＯＨ、アルコキシ基、ベンゼンスルホニルオキシ基、アルキルスルホニルオキシ基。Ｒ^2は、１，１−ジメチルエトキシカルボニル基、又はアセチル基。Ｒ^3はアルキル基。Ｒ^4はベンジル又は置換ベンジル基。Ｒ^5はＨ，テトラヒドロピラニル基、エトキシエチル基等。）のビンドリンの全合成において有用な中間体化合物。 - 特許庁

This water surface-floatable agrochemical solid preparation containing the active ingredient is characterized in containing, as a water surface spreading agent, one or more compounds selected from 3-methoxy-3-methyl-1-butyl acetate, 2-ethoxyethyl acetate, 2-ethylhexyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate and propylene glycol diacetate.例文帳に追加

農薬活性成分を含む水面浮遊性農薬固形製剤において、水面拡展剤として、３−メトキシ−３−メチル−１−ブチルアセテート、２−エトキシエチルアセテート、２−エチルヘキシルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールジアセテートより１種または２種以上を含有することを特徴とする、水面浮遊性農薬固形製剤。 - 特許庁

The method of manufacturing a polymorph 1 of bilastine: 4-[2-[1-(2-ethoxyethyl)-1H-benzimidazol-2-yl]-1-pipedinyl]ethyl-α,α-dimethyl benzenoacetic acid of formula I, pharmacological dosage forms containing the polymorph 1, and use of the polymorph 1 for treating allergic reactions and pathological processes mediated by histamine in mammal like human beings, are provided.例文帳に追加

下式（Ｉ）のビラスチン（4-[2-[1-(2-エトキシエチル)-1H-ベンズイミダゾール-2-イル]-1-ピペリジニル]エチル]-α,α-ジメチルベンゼノ酢酸）の多形体１について、それを製造する方法、多形体１を含む薬学的剤形、及びヒトのような哺乳類においてヒスタミンにより媒介されるアレルギー反応及び病理学的過程を治療するための多形体１の使用。 - 特許庁

This nail cosmetic comprises a film-forming agent composed of one or more kinds of nitrocellulose and alkyd-1, a plasticizer composed of one or more kinds of acetyltributyl citrate, dibutyl phthalate and sucrose benzoate and a solvent composed of one or more kinds of acetone, butyl acetate, methyl ethyl ketone, isopropanol, butanol, ethoxyethyl acetate and ethyl acetate.例文帳に追加

皮膜形成剤が、ニトロセルロース、アルキッド−１のうち１種または２種で、可塑剤がクエン酸アセチルトリブチル、フタル酸ジブチル及び安息香酸スクロースのうち１種または２種以上からなり、溶剤がアセトン、酢酸ブチル、メチルエチルケトン、イソプロパノール、ブタノール、酢酸エトキシエチル及び酢酸エチルのうち１種または２種以上からなるネイルアート用爪化粧料を提供するものである。 - 特許庁

The photoresist composition contains a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation, a resin containing repeating units corresponding to hydroxystyrene and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of the acid and at least one solvent selected from the group comprising propylene glycol monomethyl ether acetate and propylene glycol monomethyl ether propionate and at least one solvent selected from the group comprising propylene glycol monomethyl ether and ethoxyethyl propionate.例文帳に追加

活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、ヒドロキシスチレンに相当する繰り返し単位を含み、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増加する樹脂、並びにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート及びプロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネートの群から選択される少なくとも一種の溶剤、プロピレングリコールモノメチルエーテル及びエトキシエチルプロピオネートの群から選択される少なくとも一種の溶剤を含有する遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁