face selectivityとは 意味・読み方・使い方

The projection screen 10 has a selectivity reflective layer 11 which selectively reflects specific light and a diffractive layer 50 disposed on the front face side of the selectivity reflective layer 11.例文帳に追加

投影スクリーン１０は、特定の光を選択的に反射する選択反射層１１と、選択反射層１１の前面側に配置された回折層５０とを備えている。 - 特許庁

The optical element 11A having wavelength selectivity has a rod lens array 12 and a multilayered film filter 13 formed on one end face 14 of the array.例文帳に追加

波長選択性を有する光学素子１１Ａは、ロッドレンズアレイ１２と、同アレイの一端面１４に形成された多層膜フィルタ１３とを備える。 - 特許庁

Light incident from the front face side of the diffractive layer 50 at a specific incident angle or light incident from the back face side of the diffractive layer 50 at a specific incident angle after reflection by the selectivity reflective layer 11 is diffracted in the diffractive layer 50 to control the output direction of image light reflected by the selectivity reflective layer 11 and output to the front face side of the diffractive layer 50.例文帳に追加

回折層５０の前面側から特定の入射角で入射した光又は選択反射層１１で反射された後に回折層５０の背面側から特定の入射角で入射した光を回折層１１において回折することにより、選択反射層１１で反射され回折層の１１前面側に出射される映像光の出射方向を制御する。 - 特許庁

The face extracting section is implemented by Gabor filters that filter images using a plurality of filters that have orientation selectivity and that have different frequency components, and the face recognition section is composed of a support vector machine that maps the result of face recognition to a non-linear space once and that obtains a hyperplane that separates in that space to discriminate a face from a non-face.例文帳に追加

顔抽出部は方位選択性を持ち周波数成分の異なる複数のフィルタを用いて画像をフィルタリングするガボア・フィルタで構成され、顔認識部は顔抽出結果を非線型な空間に一度写像して該空間内で分離する超平面を求めることにより顔と非顔とを識別するサポート・ベクタ・マシーンで構成される。 - 特許庁

Then, a silicon oxide film 9 having etching selectivity with the SOG film is formed so that the silicon oxide film 9 is along an upper side face of the gate electrodes MG, SGS, SGD and an upper surface of the SOG film.例文帳に追加

次に、ゲート電極ＭＧ、ＳＧＳ、ＳＧＤの上部側面およびＳＯＧ膜の上面に沿うようにＳＯＧ膜との間でエッチング選択性を有するシリコン酸化膜９を形成する。 - 特許庁

To provide a water dispersed element for chemical mechanical polishing for sufficiently flattening a face to be polished with high shelf life stability, a chemical mechanical polishing method with high selectivity at the time of polishing and removing the face to be polished constituted of different materials, and to provide a method for manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

被研磨面を十分に平坦化することができ、保存安定性が高い化学機械研磨用水系分散体、および異なる材質からなる被研磨面を研磨除去する際の選択性に優れる化学機械研磨方法、ならびに半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

An active layer 502 having wavelength selectivity, a waveguide core 503 having no gains and no wavelength selectivity, and a reflection region (waveguide end face) 509 having no gains, are connected in series to the advance direction of light; and an electrode 506 for phase control for changing the optical effective length of the waveguide core 503 is provided.例文帳に追加

波長選択性を有する活性層５０２と、利得および波長選択性を有しない導波路コア５０３と、利得を有しない反射領域（導波路端面）５０９とが、光の進行方向に対して直列に接続されているとともに、導波路コア５０３の光学的実効長を変化させるための位相制御用電極５０６を備えている。 - 特許庁