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意味・対訳 フッ化物数

JST科学技術用語日英対訳辞書での「fluoride number」の意味

fluoride number


「fluoride number」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 11



例文

This catalyst for the fluorination reaction is characterized in that a porous support comprising calcium fluoride or magnesium fluoride is carried with an antimony halogenated substance represented by formula (1): (wherein (n) represents a number of 0-5).例文帳に追加

フッ化カルシウム又はフッ化マグネシウムからなる多孔質支持体に下記一般式(1) - 特許庁

The polyvinylidene fluoride is obtained by polymerizing vinylidene fluoride and has a polymer chain comprising a vinylidene fluoride monomer unit, where the number X of normal bonds per 100 vinylidene fluoride monomer units and the number Y of branchings per 10,000 vinylidene fluoride monomer units satisfy the following expression (a) or (b): 0≤Y≤380-4.125X例文帳に追加

ビニリデンフルオライドの重合により得られるポリビニリデンフルオライドであって、上記ポリビニリデンフルオライドは、ポリマー鎖がビニリデンフルオライドモノマー単位からなるものであり、上記ビニリデンフルオライドモノマー単位100個あたりの正常結合数X個と、上記ビニリデンフルオライドモノマー単位10000個あたりの分岐数Y個とが、下記式(a)又は下記式(b)を満たすものであることを特徴とするポリビニリデンフルオライド。 - 特許庁

Formula 1 where, R1 represents an alkyl or alkyl fluoride group with 10 or less hydrogens and carbons and n represents a natural number equal to or below 20.例文帳に追加

(式中、R^1 は、水素、炭素数10以下のアルキル基又はフッ化アルキル基を表し、nは、20以下の自然数を表す) - 特許庁

The method for producing the optical thin film includes: preparing a substrate; preparing a vapor deposition material in which lanthanum fluoride and gadolinium fluoride are mixed so that the ratio of the number of moles of gadolinium with respect to the total number of moles of lanthanum and gadolinium becomes 0.1-0.95; and vapor-depositing the vapor deposition material on the substrate.例文帳に追加

光学薄膜の製造方法は、基板を用意することと、ランタンとガドリニウムの合計モル数に対する前記ガドリニウムのモル数の比が0.1〜0.95となるように、フッ化ランタンとフッ化ガドリニウムを混合した蒸着原料を用意することと、前記基材上に前記蒸着原料を蒸着することを含む。 - 特許庁

When a temporary stop mode is selected by a selecting means 51, the number of sections 10 for producing hydrogen fluoride is decreased and the treatment gas is passed through the ejection channels 23-25 at a flow rate lower than that when surface treatment is performed and with the substantially same concentration of hydrogen fluoride as that when surface treatment is performed.例文帳に追加

選択手段51にて一時停止モードを選択すると、フッ化水素を生成する生成部10の数を減らし、表面処理実行時より小さい流量で、かつ表面処理実行時と略同じフッ化水素濃度の処理ガスを噴出路23〜25に通す。 - 特許庁

To provide a method producing a compound having a specific molar addition number in excellent selectivity, high yield by an industrially advantageous method in production of omega-iodoperfluoro acid fluoride by addition reaction of hexafluoropropene oxide.例文帳に追加

ヘキサフルオロプロペンオキシドの付加反応によってω−ヨードパーフルオロ酸フッ化物を製造する方法において、工業的に有利な方法によって、特定の付加モル数の化合物を選択性よく、高収率で製造できる方法を提供する。 - 特許庁

例文

The porous membrane is made of a hot-melt mixture membrane-forming body which is composed of poly(vinyl alcohol) resin having ≥6.0×10^5 weight average molecular weight (Mw) and 10 to 80 mole% saponification number and of poly(vinylidene fluoride) resin and is made porous.例文帳に追加

重量平均分子量(Mw)が6.0×10^5以上、ケン化度が10〜80モル%であるポリビニルアルコール系樹脂とポリフッ化ビニリデン系樹脂との熱溶融混合製膜体からなり多孔質化されていることを特徴とする多孔質膜。 - 特許庁

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日英・英日専門用語辞書での「fluoride number」の意味

fluoride number


「fluoride number」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 11



例文

This gel composition comprises a three dimensional copolymer having a copolymer composition in 92-97 mole % of vinylidene fluoride, 1-4 mole % of hexafluoropropene and 1-7 mole % of chlorotrifluoroethylene, 130-160°C melting point, approximately 150,000-300,000 number average molecular weight and 1.0-1.4 dl/g logarithmic viscosity and a lithium salt-soluble organic solvent.例文帳に追加

フッ化ビニリデン92〜97モル%、ヘキサフルオロプロペン1〜4モル%およびクロロトリフルオロエチレン1〜7モル%の共重合組成を有し、融点が130〜160℃で、数平均分子量Mnが約150,000〜300,000で、対数粘度が1.0〜1.4dl/gである3元共重合体およびリチウム塩可溶性有機溶媒を含有するゲル組成物。 - 特許庁

Even if a given number of films are formed, and then an NF_3 gas is introduced to the deposition chamber 11 as the cleaning gas, aluminum fluoride is not generated, and hence adherence to the susceptor 14 and a shower plate 16 is prevented, thus forming the SiO_2 film having uniform film thickness, and preventing contamination due to an AF_3 particle from being generated.例文帳に追加

所定枚数の成膜後に、NF_3 ガスをクリーニングガスとして成膜室11へ導入してもフッ化アルミニウムは生成せず、従ってサセプタ14やシャワープレート16に付着することはなく、膜厚の均一なSiO_2 膜が形成され、AF_3 パーティクルによる汚染も生じない。 - 特許庁

The microfabrication processing agent consisting of hydrogen fluoride, at least two components, and a solvent with acceptor number of each component of 35 or less and specific inductive capacity of 40 or less, and etching rate to the high permittivity film at 25°C twice or more than that to the silicone oxide film at 25°C.例文帳に追加

本発明の微細加工処理剤は、フッ化水素と、少なくとも2成分からなり、各成分のアクセプター数が35以下、比誘電率が40以下の溶媒とを含み、高誘電率膜に対する25℃でのエッチレートがシリコン酸化膜に対する25℃でのエッチレートの2倍以上であることを特徴とする。 - 特許庁

例文

LiMF_X is produced by bringing LiF into contact with an element M and/or a fluoride of the element M in the presence of fluorine gas and at 100°C or higher in a reaction vessel (wherein, M is an element selected from the group consisting of B, P, As, Sb, Bi, V, Nb and Ta; x is a number between 4-6).例文帳に追加

LiFと、M元素及び/又はM元素のフッ化物とを、フッ素ガス存在下において、反応槽内にて100℃以上の温度で接触させることによりLiMF_X(MはB、P、As、Sb、Bi、V、Nb、及びTaよりなる群から選択される元素を示し、xは4〜6の数である。)を製造する。 - 特許庁

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