fluorine‐containing gasesの英語

In a preferred embodiment, the gases flow to the chamber such that a ratio of a flow rate of the fluorine containing gas to a combined flow rate of the silicon containing and fluorine containing gases is less than about 0.55.例文帳に追加

好適な実施形態では、ケイ素含有ガスとフッ素含有ガスとの合計流量に対するフッ素含有ガスの流量の比率が約０．５５未満になるようにチャンバへガスを流入させる。 - 特許庁

The fluorine-containing water repellent film is deposited on a substrate by sputtering a target of silicon or silicon dioxide in a reduced pressure gaseous atmosphere containing oxygen, nitrogen and gaseous fluorine compound as reactive gases.例文帳に追加

珪素または二酸化珪素のターゲットを反応性ガスとしての酸素および窒素とフッ素化合物ガスとを含む減圧ガス雰囲気内でスパッタリングして基板上にフッ素含有の撥水性膜を成膜する。 - 特許庁

In the method, a layer of fluorinated silicate glass(FSG) is deposited on a substrate by a high-density plasma, which is generated from silicon containing, oxygen containing and fluorine containing gases.例文帳に追加

この方法では、ケイ素含有ガス、酸素含有ガス、及びフッ素含有ガスから生成された高密度プラズマにより、フッ化ケイ酸塩ガラス（ＦＳＧ）の層を基板上に堆積させる。 - 特許庁

Furthermore, in the preferred embodiment, a flow rate of the oxygen containing gas to the combined flow rates of the silicon containing and fluorine containing gases is greater than about 1.5.例文帳に追加

更に、好適な実施形態では、ケイ素含有ガスとフッ素含有ガスとの合計流量に対する酸素含有ガスの流量が約１．５より大きい。 - 特許庁

To provide a method for treating an exhaust gas which enables the simultaneous and efficient treatment of a fluorine-containing compound and CO at a low running cost, applies a low load onto a device material, can reduce a device cost and never emits hazardous gases.例文帳に追加

フッ素含有化合物およびCOを同時に且つ効率的に処理することができ、ランニングコストが廉価で、装置材料に対する負荷が低く装置コストを低減でき、有害ガスの排出のない排ガスの処理方法を提供する。 - 特許庁

In cleaning off non-silicon deposits, fluorine atoms are generated from a cleaning gas containing a fluorine-containing gas selected among fluorine gases and nitrogen fluoride gases and contacted with the non-silicon deposits.例文帳に追加

非シリコン系堆積物をクリーニング除去するに際し、フッ素ガスおよびフッ化窒素ガスから選ばれるフッ素含有ガスを含むクリーニングガスからフッ素原子を生成させ、生成したフッ素原子を非シリコン系堆積物と接触させる。 - 特許庁

In a method for precipitating boron nitride by reacting gases of a boron source and a nitrogen source by using a plasma, a fluorine gas or a fluorine-containing gaseous species is used as one component of a vapor phase and a substrate bias is used to synthesize the cubic boron nitride from the vapor phase.例文帳に追加

ホウ素源および窒素源のガスをプラズマを用いて反応させて窒化ホウ素を析出させる方法において、フッ素ガスまたはフッ素を含むガス種を気相の一成分として用い、さらに基板バイアスを用いて上記の立方晶窒化ホウ素を気相から合成する。 - 特許庁