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該当件数 : 2



例文

The method for manufacturing the package includes: a residue removal process S32G of scraping away the dry glass frit residues 6b remaining on the top surface U of a wafer 40 for base substrates; and a burning process S32H of burning and hardening glass frit 6a filled in a through hole after removing the glass frit residues 6a.例文帳に追加

ベース基板用ウエハ40の上面U上に乾燥して残渣しているガラスフリット残渣6bを削り取る残渣除去工程S32Gと、ガラスフリット残渣6bを除去した後、貫通孔内に充填されたガラスフリット6aを焼成して硬化させる焼成工程S32Hと、を有する、ことを特徴とする。 - 特許庁

例文

By holding its affinity with the absorbing film 15 when heated, the reflection film 14 and the absorbing film are bound on each other by a sol-gel reaction, and the intermediate film 16 is burned away by heating in the process of sticking the panel 10 to a funnel part 7 with frit.例文帳に追加

そして、この中間膜材料の溶媒として、熱吸収膜との相溶性の良い溶媒を用い、加熱時に熱吸収膜15との親和力を保持することにより、ゾル−ゲル反応によって導電性反射膜14と熱吸収膜を結着させると共に、パネル10とファンネル部7とのフリット付着工程における加熱によって中間膜16を焼失させる。 - 特許庁

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Text is available under Creative Commons Attribution-ShareAlike (CC-BY-SA) and/or GNU Free Documentation License (GFDL).
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