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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > 専門用語対訳辞書 > group v elementsの意味・解説 

group v elementsとは 意味・読み方・使い方

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Weblio専門用語対訳辞書での「group v elements」の意味

group v elements


group V elements

V
Weblio専門用語対訳辞書はプログラムで機械的に意味や英語表現を生成しているため、不適切な項目が含まれていることもあります。ご了承くださいませ。

「group v elements」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 68



例文

The channel includes a first III-V compound semiconductor material formed of group III and group V elements.例文帳に追加

チャネルは、III族元素とV族元素から構成される第一III-V族化合物半導体材料からなる。 - 特許庁

To improve the characteristics of a semiconductor device using III-V compound mixed crystal semiconductor materials containing In and III group elements other than In and N, and V group elements other than N.例文帳に追加

InとIn以外のIII族元素、NとN以外のV族元素を含むIII−V族化合物混晶半導体材料を用いた半導体装置の特性を向上させる。 - 特許庁

The III-V compound semiconductor film contains gallium and indium as group III elements and arsenic, phosphorus, and nitride as group V elements.例文帳に追加

III−V族化合物半導体膜は、III族元素としてガリウム及びインジウムを含むと共に、V族元素として砒素、燐及び窒素を含む。 - 特許庁

This electrode active material for an oxygen reduction electrode used as a positive electrode of a polymer electrolyte fuel cell is formed of a carbonitride of one or more kinds of elements selected from a group of group-V elements excluding V, group-IV elements excluding Ti and group-VI elements.例文帳に追加

固体高分子形燃料電池の正極として用いられる酸素還元電極用の電極活物質であって、Vを除く5族元素、Tiを除く4族元素、及び6族元素の群から選ばれる1種以上の元素の炭窒化物からなる。 - 特許庁

The first semiconductor layer and the second semiconductor layer are formed from a group III-V chemical compound semiconductor containing nitrogen as group-V elements.例文帳に追加

第1の半導体層及び第2の半導体層が、V族元素として窒素を含むIII−V族化合物半導体で形成されている。 - 特許庁

Molecular beam epitaxy (MBE) equipment (50 or 150) including sources of group III elements (68 or 170), group II elements (72 or 92'), group V elements (70 or 172), and group VI elements is prepared.例文帳に追加

III族元素ソース(68、170)、II族元素ソース(72、92’)、V族元素ソース(70、172)、及びVI族元素ソースを含む分子線エピタキシー(MBE)装置(50、150)を準備する。 - 特許庁

例文

Since the group III-V compound semiconductor layer 21 is formed of a material containing Al elements, Ga elements and In elements as group III elements and containing As elements as group V elements, band offsets in a conduction band of the embedded semiconductor layer 19, that of the second clad layer 23 and that of the group III-V compound layer 21 are small.例文帳に追加

III−V族化合物半導体層21は、III族元素としてAl元素、Ga元素及びIn元素を含むと共にV族元素としてAs元素を含む材料からなるので、埋込半導体層19の伝導帯及び第2クラッド層23の伝導帯とIII−V族化合物半導体層21の伝導帯とにおけるバンドオフセットは小さい。 - 特許庁

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「group v elements」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 68



例文

An AlN thin film 2 contains not less than 0.001% by weight and not more than 10% by weight of one or more additive elements selected from group III elements, group IV elements, and group V elements.例文帳に追加

AlN薄膜2は、III族元素、IV族元素およびV族元素から選ばれた1種以上の添加元素を0.001wt%以上10wt%以下含む。 - 特許庁

At this time, the oxide film is exposed to the gas containing the group V elements such as nitride or the like under a reduced pressure, whereby the group V elements such as nitride or the like are diffused into the oxide film, to form the gate insulating film 9 containing the more minute group V elements with a large relative dielectric constant.例文帳に追加

このとき、減圧下で、酸化膜を窒素などのV族元素を含むガスに暴露することにより、酸化膜内に窒素などのV族元素が拡散し、比誘電率の大きい,より緻密なV族元素を含有したゲート絶縁膜9が形成される。 - 特許庁

The material is composed of a group II-VI compound doped with a dopant, which is selected from the group of alkaline earth metals, group III A elements, group IV A elements, group V A elements, group VI A elements, and transition metals, and the mol percentage occupied by the dopant in the material is made from 0.1% to 30%.例文帳に追加

ドーパントをドープしたII−VI族化合物で組成され、該ドーパントはアルカリ土金属、III A族元素、IV A族元素、VA族元素、VIA族元素、遷移金属(Transitional Metal)からなる群より選択され、該ドーパントが該材料中で占めるモルパーセントは0.1%から30%とされる。 - 特許庁

The III group elements of a III-V group nitride are displaced by at least one kind of transition metals which is selected from a group consisting of V, Cr and Mn, and a mixed crystal is formed as a result.例文帳に追加

V, Cr,またはMnよりなる群から選ばれる少なくとも1種の遷移金属がIII-V族系窒化物のIII族元素を置換して混晶を形成する。 - 特許庁

At least one kind of transition metal selected from the group consisting of V and Cr substitutes for the group III elements in the group III-V compounds to form mixed crystals.例文帳に追加

VまたはCrよりなる群から選ばれる少なくとも1種の遷移金属がIII-V族系化合物のIII族元素を置換して混晶を形成する。 - 特許庁

When growing the crystal of a semiconductor layer, the ratio of a supply amount per unit hour of each material gas of group III elements and group V elements is referred to as V/III hereafter.例文帳に追加

半導体層を結晶成長させる際に結晶成長面に供給する III族元素及びV族元素の各材料ガスの単位時間当たりの供給量の比のことを以下V/III 比と言う。 - 特許庁

The active layer 15 is formed on the first n-type semiconductor layer 13 and includes a III-V group compound semiconductor layer including nitrogen and arsenic as V group elements.例文帳に追加

活性層15は、第1のn型半導体層13上に設けられており、V族元素として窒素及び砒素を含むIII-V族化合物半導体層を有する。 - 特許庁

例文

The catalyst for reducing an amide group is used, which contains ruthenium and at least one metallic element selected from the group consisting of the group V and group VI elements of the periodic table, the ruthenium and the metallic elements being carried on a carrier.例文帳に追加

ルテニウムと、周期律表第5族元素及び周期律表第6族元素からなる群より選択された少なくとも一種の金属元素とが、担体に担持されたアミド基還元用触媒を用いる。 - 特許庁

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