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high-performance MOSとは 意味・読み方・使い方
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「high-performance MOS」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 32件
To obtain a high performance MOS transistor formed by a simple manufacturing process.例文帳に追加
簡便な製造プロセスで形成される高性能なMOSトランジスタを実現する。 - 特許庁
The MOS device exhibits a reduced HCI effect and/or improved high-frequency performance.例文帳に追加
MOSデバイスは低減したHCI効果および/または改善された高周波性能を示す。 - 特許庁
To enhance resistance against a soft error due to exposure to a high energy beam and to obtain a high performance micro MOS transistor.例文帳に追加
高エネルギー線被爆によるソフトエラーに対する耐性を強化させ、且つ、微細MOSトランジスタの高性能化を実現する。 - 特許庁
By combining this n-channel type MOS transistor and a p-channel type MOS transistor having a compressive distortion in a channel region, a complementary high performance semiconductor device can be constituted.例文帳に追加
チャネル領域に圧縮歪を有するpチャネル型MOSトランジスタと組み合わせることにより、相補型の高性能半導体装置を構成できる。 - 特許庁
To provide a semiconductor device along with its manufacturing method capable of obtaining a high mobility in a p-type MOS (metal oxide semiconductor) transistor while keeping the performance of an n-type MOS transistor.例文帳に追加
N型MOSトランジスタの性能を維持しながら、P型MOSトランジスタにおける高移動度を得ることができる半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide an MOS device capable of exhibiting improved high-frequency performance and furthermore fully adapted to CMOS process technology.例文帳に追加
CMOSプロセス技術に完全に適合する向上した高周波性能が可能なMOSデバイスを提供する。 - 特許庁
Therefore, even if the gate insulation film 3 for preventing an alloy spike of Boron is thin, it can realize a MOS transistor having an intrinsically expected performance and high reliability of the performance from this film thickness.例文帳に追加
従って、ボロン突き抜け現象を抑制する上記のゲート絶縁膜が薄くても、この膜厚から本来期待される性能を有し、しかもその性能に対する信頼性の高いMOSトランジスタを実現できる。 - 特許庁
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「high-performance MOS」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 32件
To provide a chip set of high performance and a high added value about the chip set of a MOS type imaging chip and a DSP chip to be used for a digital camera etc.例文帳に追加
デジタルカメラ等に使用されるMOS型撮像チップとDSPチップのチップセットに関するもので、高性能で高付加価値なチップセットを提供する。 - 特許庁
To provide a semiconductor device which has a high performance MOS transistor formed by using a damascene gate process, and a manufacturing method thereof.例文帳に追加
ダマシンゲートプロセスを用いて特性の高いMOSトランジスタを形成半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a high-performance, long-life MOS semiconductor having a gate oxide film of desired thickness at a desired position.例文帳に追加
所望の位置に所望の厚さのゲート酸化膜を有する、高性能かつ長寿命のMOS型半導体を提供すること。 - 特許庁
To provide a high performance semiconductor device for enhancing the driving power of an MOS-FET, and to provide its fabrication process.例文帳に追加
MOS−FETの駆動力を向上させる高性能な半導体装置及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a manufacturing method for a semiconductor device which can fabricate high-performance MOS transistors as for a manufacturing method for a semiconductor device incorporating MOS transistors.例文帳に追加
本発明は、MOSトランジスタを備えた半導体装置の製造方法に関し、高性能なMOSトランジスタを形成できる半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a MOS (Metal-Oxide-Silicon) semiconductor memory device having excellent data storage characteristics, high-speed data rewriting performance, low-power consumption operation performance and high reliability at the same time.例文帳に追加
優れたデータ保持特性と、高速でのデータ書換え性能と、低消費電力での動作性能と、高い信頼性と、を同時に兼ね備えた不揮発性MOS型半導体メモリ装置を提供する。 - 特許庁
To further improve driving performance without increasing an element area in a high driving performance lateral MOS capable of increasing the gate width per unit area, by horizontally forming a plurality of trenches with respect to a gate length direction.例文帳に追加
ゲート長方向に対し水平に複数本のトレンチを形成することにより単位面積当たりのゲート幅を増大させる高駆動能力横型MOSにおいて、素子面積を増加させずに更に駆動能力を向上させる。 - 特許庁
To further improve driving performance without increasing an element area in a high driving performance lateral MOS capable of increasing the gate width per unit area by forming multiple trenches horizontally with respect to a gate length direction.例文帳に追加
ゲート長方向に対し水平に複数本のトレンチを形成することにより単位面積当たりのゲート幅を増大させる高駆動能力横型MOSにおいて、素子面積を増加させずに更に駆動能力を向上させる。 - 特許庁
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