hollow cathode methodとは 意味・読み方・使い方

The cathode electrode material having a ceramic layer on the surface of a metallic material comprises using the cathode electrode material for electrowinning characterized in that the ceramic layer is in a surface state free of droplets by using a hollow cathode ion plating method.例文帳に追加

金属材の表面にセラミック層を備えたカソード電極材であって、当該セラミック層は、ホロカソードイオンプレーティング法を用いて、ドロップレットの無い表面状態であることを特徴とする金属の電解採取用のカソード電極材を用いることによる。 - 特許庁

A cathode electrode which emits a hollow electron beam is obtained as well as a manufacturing method thereof, an electric gun and a cathode-ray tube, by forming a recess or a region that does not emit electron beams in the vicinity of the center or the periphery of an electron emission matter 9 as a cathode electrode 1.例文帳に追加

カソード電極１の電子放射物質９の中心部近傍或は外周部近傍に電子ビームを放射しない窪み或は領域を形成して中空状の電子ビームを放射するカソード電極とその製造方法及び電子銃並びに陰極線管を得る。 - 特許庁

The method comprises a step wherein arc discharge is performed between a hollow anode 11 and a cathode 2 comprising a carbon substrate facing the hollow anode 11 and a step wherein the position which has been or is subjected to arc discharge is exposed to an atmospheric or oxidizing atmosphere.例文帳に追加

中空陽極電極１１と、中空陽極電極１１に対向するカーボン基板からなる陰極電極２との間でアーク放電させる工程と、アーク放電済み又はアーク放電中の位置を大気雰囲気又は酸化雰囲気にさらす工程とを有する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an electrode capable of coating an emitter on an electrode outer surface part without coating on an inner surface part of a hollow electrode, and provide a cold-cathode discharge tube equipped with an electrode manufactured with the method.例文帳に追加

ホロー電極の内面部に塗布されることなくエミッターを電極外面部に塗布することのできる電極の製造方法およびかかる方法で製造された電極を具備する冷陰極放電管を提供する。 - 特許庁

When the cathode body is manufactured using a grind subject body 20 in which at least one doughnut shape protrusion 22 is formed integrally on the outer circumference of a hollow cylinder 21 coaxially with the hollow cylinder 21, electrolytic grinding method is used for the machining of the top end of the doughnut shape protrusion 22.例文帳に追加

少なくとも１つのドーナツ状突起２２を、中空円筒２１の外周に、中空円筒２１と同軸に一体形成してなる被研磨体２０を用いて陰極体を製造するに際し、ドーナツ状突起２２の先端の加工に電解研磨法を用いることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method for treating a large-area substrate using hollow cathode plasma, which can execute processes such as ashing, cleaning and etching by using plasma to a substrate such as a semiconductor wafer or a glass substrate.例文帳に追加

半導体ウエハ、またはガラス基板などのような基板に対して、プラズマを利用してアッシング、洗浄、エッチングなどのプロセスを実行することができるホローカソードプラズマを利用した大面積基板処理方法を提供する。 - 特許庁

In covering a plurality of ceramic films on the surface of the unidirectionally oriented silicon steel plate without any film, a TiNO film is formed for a first covering layer by a hollow cathode method under the high bias voltage of ≥-100 V to the steel plate.例文帳に追加

膜無し一方向性珪素鋼板の表面に、複数層のセラミック被膜を被覆するに際し、被覆第１層として、鋼板に対し−100 Ｖ以上の高バイアス電圧の付与下に、中空陰極法によりTiNO被膜を被成する。 - 特許庁

In the film deposition method, a vacuum tank 11, a hollow cathode type electron gun 20, and a plurality of hearths 31, 31 ... to store metallic materials M1, M2, ... are assembled to each other, and the metallic materials M1, M2, ... are simultaneously evaporated by successively applying the anode voltage to each hearth 31.例文帳に追加

真空槽１１と、ホローカソード形の電子銃２０と、金属材料Ｍ1 、Ｍ2 …を収納する複数のハース３１、３１…とを組み合わせ、各ハース３１に陽極電圧を順次印加して金属材料Ｍ1 、Ｍ2 …を同時に蒸発させる。 - 特許庁