isotropic distributionとは 意味・読み方・使い方

To provide an illumination optical system for providing illuminating luminous flux having isotropic NA distribution with compact constitution equipped with a laser array light source.例文帳に追加

レーザーアレイ光源を備えたコンパクトな構成でありながら、等方的なＮＡ分布を有する照明光束が得られる照明光学系を提供する。 - 特許庁

Moreover, the distribution of the first peak intensity showing the maximum intensity in an X-ray diffraction pattern inside a stimulable phosphor layer face is isotropic from the center of the support 11.例文帳に追加

そして、輝尽性蛍光体層面内のＸ線回折パターンにおいて最大強度を示す第１ピーク強度の分布が支持体中心から等方的である。 - 特許庁

To provide a hot isotropic pressurizing device of a simple structure capable of reducing a temperature distribution in a treatment chamber, in particular, increasing a cooling speed in a cooling process.例文帳に追加

処理室内の温度分布を低減させるとともに特に冷却工程において冷却速度を速めることができかつ構造が単純な熱間等方圧プレス装置を提供する。 - 特許庁

To provide an illumination optical system with a light source which emits luminous flux having a flat cross section, and obtaining illuminating luminous flux having isotropic NA distribution in spite of compact configuration.例文帳に追加

扁平な光束断面を持つ光束を出射する光源を備え、かつ、コンパクトな構成でありながら、等方的なＮＡ分布を有する照明光束が得られる照明光学系を提供する。 - 特許庁

To provide an illumination optical system which obtains illuminating luminous flux having isotropic NA distribution though it has compact constitution including a light source which emits illuminating luminous flux having a flat cross section.例文帳に追加

扁平な断面の照明光束を出射する光源を備えたコンパクトな構成でありながら、等方的なＮＡ分布を有する照明光束が得られる照明光学系を提供する。 - 特許庁

To provide a laser annealing apparatus and a laser annealing method for deforming an energy distribution in the short axis direction of a linear beam into an ideal flat top shape having no inclined skirt portion even while using a solid state laser and thereby obtaining isotropic and uniform crystal grains.例文帳に追加

固体レーザを用いながらも、線状ビームの短軸方向のエネルギー分布を、傾斜した裾部がない理想的なフラットトップ形状に変形するができ、これにより、等方的で均一な結晶粒を得ることができるレーザアニール装置及びレーザアニール方法を提供する。 - 特許庁

To find a novel possibility for in-situ cleaning of the optical surfaces of reflection optics which are contaminated by debris in plasma-based radiation sources so as to allow an integrated generation of known gas radicals and the isotropic distribution thereof on the contaminated optical surfaces.例文帳に追加

公知のガスラジカルの集積発生と、汚染された光学表面上でのその等方的な分散とを可能にするように、プラズマベースの放射線源においてデブリによって汚染された反射光学素子の光学表面の、その場での清浄化のための新規な可能性を見出す。 - 特許庁