layer to layer spacingとは 意味・読み方・使い方

A virtual graphic creation part 203 creates a virtual graphic in association with a terminal graphic, an obstacle graphic, wiring or a via graphic on one layer on a wiring layer or a via layer to which a wiring layer-via layer spacing rule should be applied, on the other layer.例文帳に追加

仮想図形作成部２０３は、配線層−ビア層スペーシングルールが適用されるべき配線層又はビア層上の一方の層上の端子図形、障害物図形、配線、又はビア図形に対応して、他方の層上に仮想図形を作成する。 - 特許庁

To achieve a thick film of a wiring layer, while suppressing an increase of a wiring spacing of a circuit board.例文帳に追加

回路基板の配線間隔の増大を抑制しつつ、配線層を厚膜化できるようにする。 - 特許庁

A wiring-prohibited region creation part (207) arranges and sets a wiring-prohibited region in consideration of a wiring layer-via layer spacing value corresponding to the virtual graphic on the other layer.例文帳に追加

配線禁止領域作成部（その２）２０７は、当該仮想図形に対応し配線層−ビア層間スペーシング値を考慮した配線禁止領域を、当該他方の層上に配置設定する。 - 特許庁

A n^- type drain layer 6 ranging from the surface to a depth which the SOI layer 2 reaches is selectively formed by arranging a predetermined spacing with the p^- type base layer 4.例文帳に追加

肉薄部分において、ｐ型ベース層４と所定間隔を空けて選択的に、その表面からＳＯＩ絶縁層２に到達する深さに亘って、ｎ型ドレイン層６が形成されている。 - 特許庁

To solve various problems involved in a manufacturing process due to reduction in the spacing to be a distance between a magnetic head and a recording layer.例文帳に追加

磁気ヘッドと記録層との距離であるスペーシングの減少に伴う製造プロセス上の諸課題を解決する。 - 特許庁

To solve various problems in a manufacturing process following the reduction of spacing, i.e., a distance between a magnetic head and a recording layer.例文帳に追加

磁気ヘッドと記録層との距離であるスペーシングの減少に伴う製造プロセス上の諸課題を解決する。 - 特許庁

In the joined body, a spacing layer having a space between the substrate and the retaining substrate is incorporated, and the space is formed at least on the surface of the spacing layer directed to the substrate.例文帳に追加

本発明による接合体は、基板と保持基板との間に空所を有する間隔層が入れ込まれて、前記空所は少なくとも基板に向いている間隔層の表面に設けられていることを特徴とする。 - 特許庁

On both sides of the second semiconductor layer 13, oxidized regions 13a which are oxidized portions of the second semiconductor layer 13 are formed with a spacing between them in the direction parallel to the plane of the light emitting layer 12.例文帳に追加

第２半導体層１３における両側部には、発光層１２が形成する面と平行な方向に互いに間隔をおいた酸化領域１３ａが、該第２半導体層１３自体が酸化されて形成されている。 - 特許庁