ligaとは 意味・読み方・使い方

In the application, by using a substrate 30 with a plurality recessed line parts 31 formed on a surface, and by using the LIGA process, the contacts are plated and formed on the substrate.例文帳に追加

本発明では、複数の凹型条部３１が表面に形成された基板３０を用い、前記基板上にＬＩＧＡプロセスを利用して、接触子をメッキ成形している。 - 特許庁

To provide a mask which enables molding of three-dimensional shape in microfabrication by an LIGA process and ultraviolet ray lithography, using a simple and convienient method.例文帳に追加

ＬＩＧＡプロセス及び紫外線リソグラフィーによる微細加工において三次元形状の成形を可能にするマスクを簡便な工法で提供する。 - 特許庁

A mold 13 is manufactured in an LIGA process conducting irradiation 7 such as X-ray beam irradiation using asymmetrical reflection with a crystal or X-ray interference fringe beam irradiation with a crystal.例文帳に追加

ＰＭＭＡ等のレジスト材料３に対して高精細Ｘ線マスク、結晶による非対称反射を用いたＸ線ビームの照射、結晶によるＸ線干渉縞ビームの照射等の照射７を行うＬＩＧＡプロセスによりモールド１３を作製する。 - 特許庁

Other X-ray reflection devices are obtained, by forming a metal substrate on which a plurality of curved slits are formed with an X-ray LIGA process, and by forming grinding each side wall of the plurality of slits by using a magnetic fluid to form the X-ray reflection plane.例文帳に追加

他のＸ線反射装置は、Ｘ線ＬＩＧＡプロセスで複数の曲線状のスリットが形成された金属基板を形成し、磁性流体を使って前記複数のスリットの各側壁を研磨してＸ線反射面を形成して得られる。 - 特許庁

By using the LIGA process, form patterns 32a of the contacts are accurately formed on a resist layer 32 even if the thickness of the resist layer 32 is large or uneven, whereby each contact is formed into a predetermined shape.例文帳に追加

しかもＬＩＧＡプロセスを利用することで、レジスト層３２の膜厚が厚くても、あるいは均一な膜厚で無くても、前記レジスト層３２に前記接触子の形状パターン３２ａを高精度に形成することができ、よって前記接触子を所定形状に形成することが可能である。 - 特許庁

The method for manufacturing a metal photograph includes steps of preparing a substrate, applying a photoresist film thereon, exposing and developing the film by using a patterned film as a mask to pattern the photoresist film to form a photoresist pattern having a pattern corresponding to the film, forming a seed film on the substrate and the photoresist pattern, and producing a metal film on the seed film by LIGA techniques.例文帳に追加

金属写真の製作方法は、基板を提供して、それにフォトレジスト膜を塗布し、パターンを有するフィルムをマスクとして露光現像工程を行って、フォトレジスト膜をパターン化して、フィルムに対応するパターンのあるフォトレジストパターンを形成し、基板とフォトレジストパターンにシード膜を形成し、ＬＩＧＡ技術でシード膜に金属膜を形成するステップを含む。 - 特許庁

To provide a method and a device for smoothly finishing the surface of a micro structural body at an optical level by improving a micro roughness on the surface of the micro structural body by defects of mask edge shape and a reaction in a resist when the micro structural body is finished by X-ray lithography or photo lithography including a lithography step in a LIGA process.例文帳に追加

ＬＩＧＡプロセスにおけるリソグラフィ工程を含むＸ線リソグラフィやフォトリソグラフィ等により微小構造体を加工した際において、マスクエッジ形状の欠陥や、レジスト内に生じる反応等によって発生する微小構造体の表面の微小な荒れを改善し、当該微小構造体の表面を光学レベルで平滑にすることができる表面加工方法及び表面加工装置等を提供する。 - 特許庁