line-etchingとは 意味・読み方・使い方

In another method, the wafer is partitioned by applying an etching process engraving by etching a scribe line from the surface side of the wafer, and another etching process engraving the scribe line by etching from the rear side of the wafer to manufacture a plurality of semiconductor chips.例文帳に追加

若しくは、ウェハの表面側からスクライブラインを触刻するエッチング処理と、ウェハの裏面側からスクライブラインを触刻するエッチング処理とを行うことによりウェハを分割して複数の半導体チップを製造する。 - 特許庁

Masking and etching processes are carried out with a bit-line layer 50.例文帳に追加

マスキングおよびエッチング工程がビット線層５０に対して実行される。 - 特許庁

The perforation line or the groove is formed by, for example, a laser or etching.例文帳に追加

ミシン目または溝は、例えばレーザーまたはエッチングにより形成される。 - 特許庁

To provide a method of forming a bit-line contact plug by directly etching a bit-line contact material film.例文帳に追加

ビット線コンタクト材料膜を直接にエッチングしてビット線コンタクトプラグを形成する方法を提供する。 - 特許庁

APPARATUS FOR ETCHING SUBSTRATE AND FABRICATION LINE FOR LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

基板エッチング装置及びこれを利用した液晶表示素子製造ライン - 特許庁

A bit line 12 which is an etching mask is formed of high melting point metal silicide.例文帳に追加

エッチングマスクとなるビット線１２を高融点金属シリサイドで形成した。 - 特許庁

The layers are patterned by dry etching by using chlorine gas to form a signal line 13.例文帳に追加

塩素系ガスを用いたドライエッチングにてパターニングして信号線13とする。 - 特許庁

To provide a plasma etching method and a plasma etching apparatus capable of independently controlling distributions of line widths and heights of line parts in a surface of a wafer in forming the line part by etching a laminated mask film including an inorganic film and organic film, or in forming a plurality of kinds of line parts having different intervals between adjacent line parts by etching a mask film.例文帳に追加

無機膜と有機膜とを含む積層マスク膜をエッチングしてライン部を形成する場合、又は、マスク膜をエッチングして隣接するライン部の間隔が異なる複数種類のライン部を形成する場合に、ウェハの面内におけるライン部の線幅及び高さの分布を独立して制御できるプラズマエッチング方法及びプラズマエッチング装置を提供する。 - 特許庁