mask pattern informationとは 意味・読み方・使い方

An electrode pattern 28 for providing identification information indicating the kind of the mask layer 24 is provided on an end of the mask layer 24.例文帳に追加

マスク層２４の端部には、マスク層２４の種類を示す識別情報を提供するものとして電極パターン２８が設けられる。 - 特許庁

MASK PATTERN DATA GENERATION METHOD, INFORMATION PROCESSING APPARATUS, PHOTOMASK FABRICATION SYSTEM, AND IMAGING DEVICE例文帳に追加

マスクパターンデータの生成方法、情報処理装置及びフォトマスク作製システム並びに撮像素子 - 特許庁

A mask processing means 9 performs mask processing to the expectation pattern 8 based on the output signal observation interval information 7, and outputs expectation pattern 10 after mask processing.例文帳に追加

マスク処理手段９は、出力信号観測間隔情報７に基づき期待値パターン８に対するマスク処理を行い、マスク処理後の期待値パターン１０を出力する。 - 特許庁

Then, an amount of pattern correction to the mask patterns according to information with regard to the size of the mask patterns and the average light intensity is calculated for every mask pattern.例文帳に追加

そして、前記マスクパターンの寸法に関する情報および前記平均光強度に応じた前記マスクパターンへのパターン補正量を、前記マスクパターン毎に算出する。 - 特許庁

For verification of connections of two or more masks, mask position is decided through pattern matching between the mask pattern data of masks and image data, and respective mask images are combined on the basis of these position information pieces.例文帳に追加

２以上のマスクの接続を確認する場合に、マスクのマスクパターンデータと画像データとをパターンマッチングすることによりマスク位置を決め、この位置情報を基にそれぞれのマスク画像を合成する。 - 特許庁

At the same time, the server reads a mask pattern out of the mask data, calculates the inner product of the mask pattern and the data including the embedded additional information and sends this inner product to the anti-tamper device.例文帳に追加

この時、サーバは、マスクデータからマスクパターンを読み込み、このマスクパターンと付加情報の埋め込まれたデータとの内積を計算し、該内積の計算結果を耐タンパ性デバイスへ送信するようにする。 - 特許庁

To provide a mask for specifying a shape of a magnetic pattern by which various information regarding to the mask for specifying the shape of magnetic pattern can be easily specified by the mask alone, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

磁化パターン形状規定用マスクに関する各種の情報をマスク単独で容易に特定できるようにした、磁化パターン形状規定用マスク、及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

Then, the reference mask correction amount and the change amount information are extracted corresponding to the pattern from association information in which the pattern, the reference mask correction amount, and the change information are associated with each other.例文帳に追加

そして、前記パターンと、前記基準マスク補正量と、前記変化量情報と、を対応付けした対応付け情報から、前記パターンに対応する基準マスク補正量および変化量情報を抽出する。 - 特許庁