massflow controllerとは 意味・読み方・使い方

Upon intermittently supplying the gas by a massflow controller 2, the assist gas with uniform density of a very small quantity is supplied by making it pass through a diffusion mechanism 3 connected with the massflow controller 2.例文帳に追加

マスフローコントローラ２でガスの供給量を断続させ、マスフローコントローラ２に接続される拡散機構３を通すことで均一で微量な濃度のアシストガスを供給する。 - 特許庁

To provide a method for configuring a massflow controller for operating with fluid and/or operating conditions different from that used during the production of the massflow controller.例文帳に追加

質量流量コントローラの製造中に使用されたものと異なる流体および／動作条件で動作するように質量流量コントローラを構成する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a massflow controller capable of safely closing a flow path without allowing flow of excessive amount of fluid even when abnormality occurs.例文帳に追加

異常発生時にも過大な流量の流体を流すことがなく、安全に流路を閉鎖することができるマスフローコントローラを提供する。 - 特許庁

In the case of depositing a PZT on a lower electrode layer and thereafter crystallizing it by heat treatment in an atmosphere of mixed gas of O_2/Ar, the flow rate of O_2 gas is controlled by one massflow controller, and the flow rates of Ar gas for purge and for O_2 gas concentration adjustment are controlled respectively by separate massflow controllers.例文帳に追加

下部電極層上にＰＺＴを堆積した後、それをＯ_２／Ａｒ混合ガス環境下の熱処理で結晶化する際に、Ｏ_２ガスはその流量を１つのマスフローコントローラで制御し、Ａｒガスはパージ用とＯ_２ガス濃度調整用の流量をそれぞれ別々のマスフローコントローラで制御する。 - 特許庁

To provide a massflow controller that eliminates the need to newly provide a fluid detector by keeping changes, if any, in the zero point of a flow detector due to characteristic changes over time from affecting how a finished product is made.例文帳に追加

流量検出器が経時的な特性変化に伴いゼロ点が変動しても製品の出来映えに影響せず、新たに流体検出器を設ける必要がないマスフローコントローラを提供する。 - 特許庁

The method includes: the step of separately supplying Zr(BH_4)_4 gas forced to go out by supplying Ar gas to a material tank TK from a massflow controller MFC1, and oxygen atom-containing gas activated by excitation in a microwave plasma source PL to a space on a surface of a substrate S through holes provided in a shower plate 36.例文帳に追加

マスフローコントローラＭＦＣ１から原料タンクＴＫにＡｒガスを供給することによって押し出されたＺｒ（ＢＨ_４）_４ガスと、マイクロ波プラズマ源ＰＬで励起することによって活性状態にされた酸素原子を含むガスとを、シャワープレート３６に設けられた複数の孔から別々に基板Ｓ表面の空間に供給する。 - 特許庁