minimal exposureとは 意味・読み方・使い方

To provide a positive resist material which exhibits a high sensitivity and a high resolution in exposure with high-energy radiation, exhibits a minimal line edge roughness due to controlled swell during development, and leaves minimal residues following development.例文帳に追加

高エネルギー線での露光において、高感度で高解像性を有し、また、現像時の膨潤が抑えられるためラインエッジラフネスが小さく、現像後の残渣が少ないポジ型レジスト材料を提供する。 - 特許庁

In a negative resist, a region having the low transmissivity of the mask is arranged on the region of the resist aimed at small exposure or the minimal exposure to form a large-pattern region.例文帳に追加

ネガ型レジストの場合には、マスクの透過性が低い領域は、レジストの、大きなパターンの領域を形成するために低露光又は最小露光が意図される領域上に配置される。 - 特許庁

To provide an ion cosmetic apparatus, whose shape is as minimal as an eyebrow pencil, capable of applying ion cosmetic treatment without worrying about public exposure anywhere.例文帳に追加

アイブローペンシルと同程度の極小形状で、何処でも人目を気にせずにイオン美容が実施可能なイオン美容装置を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist material having a high sensitivity and a high resolution in exposure with a high energy line and ensuring a minimal line edge roughness and little residue after development.例文帳に追加

高エネルギー線での露光において高感度で高解像性を有し、ラインエッジラフネスが小さく、現像後の残渣が少ないポジ型レジスト材料を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist material which exhibits high resolution and forms a resist film having minimal edge roughness, a good pattern profile after exposure, and improved etching resistance.例文帳に追加

高解像度でラインエッジラフネスが小さく、露光後のパターン形状が良好であり、更に優れたエッチング耐性を示すレジスト膜を与えるポジ型レジスト材料を提供する。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus to execute highly precise exposure while maintaining defocus distortion minimal and stably enabling desirable illuminance distribution (e.g. uniform distribution) onto a substrate, even when a numerical aperture of an optical system is large or exposure conditions such as an illumination mode change in various kinds.例文帳に追加

光学系の開口数が大きい場合であっても、また、照明モード等の露光条件が各種変化した場合であっても、安定して基板上への照度分布を所望の分布（例えば、均一分布）にすることができ、かつデフォーカスディストーションを最小にしつつ、高精度な露光を行うことができる露光装置を提供すること。 - 特許庁

A vacuum process apparatus facilitates heating of substrates and films, exposure of substrates and films to vapor with minimal vapor leakage, deposition of thin films onto substrates, and stripping thin films from substrates.例文帳に追加

真空処理装置によって、基体および膜の加熱、蒸気漏出を極力抑制した、基体および膜の蒸気への暴露、基体上への薄膜の成膜、および薄膜の基体からの剥離が容易になる。 - 特許庁