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mono silaneとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 モノシラン
「mono silane」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 10件
To obtain polycrystalline silicon satisfying the purity matching a solar cell material stably at a low cost using a Siemens method or a mono-silane method.例文帳に追加
シーメンス法またはモノシラン法を利用し、太陽電池用原料に見合った純度を満足する多結晶シリコンを、安価に安定して得ること。 - 特許庁
After the removal of the impurities, such as the native oxide layer and the like, is completed, mono germane (GeH4) and mono silane (SiH4) are introduced from a gas introducing tube 17 to form a film of silicon germanium (SiGe) at 500°C, adjusting pressure.例文帳に追加
自然酸化膜などの不純物の除去が完了したら、ガス導入管17からモノゲルマン(GeH4)とモノシラン(SiH4)を導入し圧力を調節しながらシリコンゲルマニウム(SiGe)を500℃で成膜する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a semiconductor device and a wafer processing system for forming silicon germanium film excellent in film thickness and germanium ratio in-plane and plane-to-plane uniformity by a low-pressure CVD method by using mono-silane and mono-germanium.例文帳に追加
モノシランとモノゲルマンとを使用して、減圧CVD法によって、膜厚およびゲルマニウム比率の面内・面間均一性が良好なシリコンゲルマニウム膜を基板上に形成する半導体デバイスの製造方法および基板処理装置を提供すること。 - 特許庁
Subsequently, after cleaning and ammonia plasma treatment are performed, the CMP surface of a wafer 1W is exposed to an inorganic silane compound gas, such as mono- silane or the like, so as to subject a microvolume of silicon to a solid solution in the outer layer of the main conductive film 18a in the embedded second layer wirings L2.例文帳に追加
続いて、洗浄処理およびアンモニアプラズマ処理を経た後、ウエハ1WのCMP面をモノシラン等のような無機系シラン化合物ガスに晒すことにより、埋込第2層配線L2の主導体膜18aの表層に微量のシリコンを固溶させる。 - 特許庁
The modified mesoporous oxide (A) is obtained by modifying a mesoporous oxide (a) with at least one kind of a modifying agent selected from a group comprising compounds having at least one kind of structural unit selected from a group comprising tri-organo silane unit, mono-oxy di-organo silane unit and dioxy-organo silane unit, and the high crystallinity mesoporous oxide (B) is derived from the modified mesoporous oxide (A).例文帳に追加
メソポーラス酸化物(a)を、トリオルガノシラン単位、モノオキシジオルガノシラン単位、ジオキシオルガノシラン単位よりなる群から選ばれる少なくとも1種の構造単位を有する化合物類よりなる群から選ばれる少なくとも1種の変性剤化合物(b)を用いて変性処理することによって得られる変性メソポーラス酸化物(A)、およびそれから誘導される高結晶性メソポーラス酸化物(B)。 - 特許庁
The modified photocatalyst particle is obtained by modifying/treating a photocatalyst particle using a modifying agent compound containing a spectral sensitizing group and having at least one kind of structure unit selected from the group consisting of a specified mono-oxy di-organo silane unit, a specified di-oxy organo silane unit, and a specified di-fluoro methylene unit.例文帳に追加
光触媒粒子を、特定のモノオキシジオルガノシラン単位、特定のジオキシオルガノシラン単位、及び特定のジフルオロメチレン単位よりなる群から選ばれる少なくとも1種の構造単位を有する化合物であって分光増感基を含有する変性剤化合物を用いて変性処理することによって得られることを特徴とする変性光触媒粒子。 - 特許庁
To provide a novel method of forming a silicon oxide film, which is different from a CVD method using SiH4 (mono-silane) or TEOS (tetraethoxysilane) and a semiconductor device having a silicon oxide film formed by using the same.例文帳に追加
SiH_4 (モノシラン)やTEOS(Tetra−Ethoxy−Sinane)を用いるCVD法とは異なる新規なシリコン酸化膜の形成方法、及びそれを用いて成膜されたシリコン酸化膜を備えた半導体装置を提供すること。 - 特許庁
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「mono silane」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 10件
A silicon oxide film is formed on the main surface of a semiconductor substrate 1S so as to cover an auxiliary gate electrode 4G while increasing the supply amount of oxygen with the lapse of time by a CVD method using mixed gas containing mono-silane and oxygen.例文帳に追加
補助ゲート電極4Gを覆うように半導体基板1Sの主面上に、モノシランと酸素を含む混合ガスを用いたCVD法によって、時間経過と共に酸素の供給量を増加しながら酸化シリコン膜を形成する。 - 特許庁
To provide a film formation method of a silicon carbide thin film which can obtain a silicon carbide thin film of high quality by using organic silane such as mono methylsilane (SiH_3CH_3) which is excellent in safety when compared to special high pressure gas such as monosilane (SiH_4) and disilane (Si_2H_6).例文帳に追加
モノシラン(SiH_4)、ジシラン(Si_2H_6)等の特殊高圧ガスに比べて安全性に優れたモノメチルシラン(SiH_3CH_3)等の有機シランを用いて、高品質の炭化珪素薄膜を得ることができる炭化珪素薄膜の成膜方法を提供する。 - 特許庁
The paint consisting of a composition comprising a methyl group-containing organo mono-silane as a binder, at least one kind selected from the group consisting of acids, alkalis, zinc compounds, titanium compounds and zirconium compounds, as a curing catalyst, and rutile-type titanium oxide fine particles having an average particle size of ≤0.1 μm, is provided.例文帳に追加
バインダーとして、メチル基を含むオルガノモノシラン、硬化触媒として、酸、アルカリ、亜鉛化合物、チタン化合物及びジルコニウム化合物からなる群から選択された少なくとも1種、並びに、平均粒径が0.1μm以下のルチル型酸化チタン微粒子を含む組成物からなる塗料。 - 特許庁
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