oblique incident~の英語

To increase the light utilization efficiency by utilizing the oblique- incident light, in a transmission type liquid crystal display device.例文帳に追加

透過型液晶表示装置において、斜め光を利用して、光利用効率を上げる。 - 特許庁

Consequently, the first microlens has a wider incident angle range to have improved efficiency of convergence of oblique incident light.例文帳に追加

これにより、第１のマイクロレンズは、入射角度範囲が広がり、斜め入射光の集光効率が向上する。 - 特許庁

The normal direction of the surfaces of the light incident side in the separation optical element 12 is oblique to the incident direction of the light flux from the multiple light emission parts.例文帳に追加

そして、分離光学素子１２における入射側の面の法線方向は、複数の発光部からの光束の入射方向に対し傾斜している。 - 特許庁

To easily switch between a coaxial vertically incident light illumination and an oblique light illumination in a state where a coaxial vertically incident light illumination device is still attached to a stereomicroscope.例文帳に追加

同軸落射照明装置を実体顕微鏡に装着したままで、同軸落射照明と傾斜照明との切り換えが容易なこと。 - 特許庁

To provide a laminated multilayer film having a reflective polarization function in which the hue dislocation of transmitted polarized light by an incident angle in the oblique direction to light incident in the oblique direction simultaneously while polarization performance is raised further is not seen.例文帳に追加

従来よりもさらに偏光性能を高めつつ、同時に斜め方向に入射した光に対して斜め方向の入射角による透過偏光の色相ずれが見られない、反射偏光機能を有する多層積層フィルムを提供する。 - 特許庁

To obtain a diffraction optical element that is hardly degraded in imaging performance, by controlling undesired light occurring in an luminous flux made incident on a diffractive grating part with an incident angle (screen external light incident angle) more oblique than a main luminous flux incident angle.例文帳に追加

回折格子部に主光束入射角度より斜入射角度（画面外光入射角度）で入射する光束において発生する不要光を制御し、像性能を低下させにくい回折光学素子を得ること。 - 特許庁

To provide a pellicle for lithography that is suitable to be used for liquid immersion exposure type lithography selectively using only an oblique incident light component of incident laser beam and that has a transmittance for oblique incident light having an increased allowable range for lithographic operation.例文帳に追加

入射するレーザー光の斜入射成分のみを選択的に使用する液浸露光タイプのリソグラフィーに用いるのに最適な、斜入射光の光透過率がリソグラフィー操作にとって許容できる範囲を拡げたリソグラフィー用ペリクルを提供する。 - 特許庁

The Si is preferably sputtered from the direction oblique to the substrate so that an incident angle θ formed by the normal direction of the substrate and an incident direction in which the Si is made incident on the surface of the substrate is 60 to 90°.例文帳に追加

前記Ｓｉを基板面に対して、基板の法線とＳｉが基板面に入射する入射方向との間の角度からなる入射角θが６０°以上９０°以下になるように斜め方向からスパッタリングすることが好ましい。 - 特許庁