perfect markとは 意味・読み方・使い方

To solve the following problem: when an alignment mark is formed straddling a plurality of shots, manual work by a user himself or herself is required in order to create an alignment mark being a perfect form from CAD data.例文帳に追加

アライメントマークが複数のショットに跨って形成されている場合、完成形であるアライメントマークをＣＡＤデータから作成するためにはユーザ自身の手作業が求められる。 - 特許庁

To enhance reading precision for reading a page mark under the condition where an image of the page mark is not read as a perfect shape because of deposit of foreign matter or the like.例文帳に追加

異物の付着などによってページマークのイメージを完全なかたちで読み込むことができない状況でのページマーク読取精度の向上を図る。 - 特許庁

When a single alignment mark is created straddling a plurality of shots, CAD data of the plurality of shots related to respective alignment marks are synthesized in accordance with a mutual positional relationship to automatically create synthetic CAD data including a perfect form of the alignment mark.例文帳に追加

１つのアライメントマークが複数のショットに跨って作成される場合に、各アライメントマークに関連する複数のショットのＣＡＤデータを相互の位置関係に応じて合成し、アライメントマークの完成形を含む合成ＣＡＤデータを自動的に作成する。 - 特許庁

The method consists in modulating the recording laser beam with the modulation data signals accompanied by the time delay equal to the parting distance between the preheating focusing spot and the recording focusing spot and generating the recording laser beam to irradiate the medium with the recording focusing spot in order to raise the temperature of the respective preheated regions to the value above the threshold of the perfect mark formation, thereby forming the tracks of permanent recording marks.例文帳に追加

この方法は、プリヒート集束スポットと記録集束スポットの間の離隔距離に等しい時間遅延を伴なって変調データ信号で記録レーザビームを変調し、各プリヒート領域の温度を完全なマーク形成のしきい値以上に上昇させるために記録集束スポットを照射する記録レーザビームを発生し、永久記録マークのトラックを形成する。 - 特許庁

By having a structure in which a perfect Cr shading part is a self-alignment type, a dicing mark part is a Cr recessing type and a pattern part is a HT pattern, the resist shape on the wafer after photomask pattern exposure can be improved and the defect detection sensitivity in the photomask defect inspection can be sufficiently obtained.例文帳に追加

完全Ｃｒ遮光部はセルフアライン型、ダイシングマーク部はＣｒ後退型、パターン部はＨＴパターンという構造を有することにより、フォトマスクパターン露光後のウェーハ上のレジスト形状を良好にし、かつフォトマスク欠陥検査時における欠陥検出感度を十分に得ることができる。 - 特許庁

Also by the structure that the perfect Cr shading part is the Cr recessing type, the dicing mark part is the Cr recessing type and the pattern part is the HT pattern, the resist shape on the wafer after the photomask pattern exposure is improved and defect detection sensitivity in the photomask defect inspection can be sufficiently obtained too.例文帳に追加

完全Ｃｒ遮光部はＣｒ後退型、ダイシングマーク部はＣｒ後退型、パターン部はＨＴパターンという構造を有することによっても、同様にフォトマスクパターン露光後のウェーハ上のレジスト形状を良好にし、かつフォトマスク欠陥検査時における欠陥検出感度を十分に得ることができる。 - 特許庁