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plasma modelとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 プラズマ模型; プラズマモデル
「plasma model」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 12件
In another embodiment, the method includes a step in which a plasma impedance model of the plasma as a frequency function is provided so as to calculate at least one plasma characteristic by using the model.例文帳に追加
別の実施形態において、本方法は周波数の関数としてのプラズマのプラズマインピーダンスモデルを提供し、モデルを用いて少なくとも１つのプラズマ特性を求めることを含む。 - 特許庁
Obtaining a cross-section of the three-dimensional model with three dimensional CAD data and giving this data to a plasma display panel, plasma emission is carried out.例文帳に追加
３次元ＣＡＤデーターにより立体模型の断面をもとめ、このデーターをプラズマディスプレイパネルに与え、プラズマ発光させる。 - 特許庁
To provide a plasma processing method capable of enhancing the accuracy of prediction or the like of a processing result by a plasma processing apparatus, and relieving a load required for production of a model.例文帳に追加
プラズマ処理装置による処理結果の予測などの精度を高めることができるとともに，モデル作成の際の負担を軽減する。 - 特許庁
To provide a shaping method for a three-dimensional model and its device using ultraviolet rays generated by a plasma discharge.例文帳に追加
プラズマ放電によって発生する紫外線を用いた立体模型造形法および装置を提供する。 - 特許庁
The three-dimensional model is shaped by projecting ultraviolet rays generated by the plasma discharge on a photo-setting resin and hardening it using a plasma display substituting an ultraviolet laser.例文帳に追加
紫外線レーザーに代わり、プラズマディスプレイを利用し、プラズマ放電によって発生する紫外線を、光硬化性樹脂に投影して硬化させ、立体模型を造形する。 - 特許庁
In other embodiment, the method includes a step in which the plasma impedance model of the plasma as a frequency function is provided and a current and voltage of a waveform that is connected to the plasma and has at least two different frequencies are measured so as to calculate ion mass of the plasma from the model and the measured current and voltage of the waveform.例文帳に追加
更に別の実施形態において、本方法は周波数の関数としてのプラズマのプラズマインピーダンスモデルを提供し、プラズマに結合され、少なくとも２つの異なる周波数を有する波形について電流と電圧を測定し、モデルと測定した波形の電流と電圧とからプラズマのイオン質量を求めることを含む。 - 特許庁
Using the read pediction model expression as a correlation expression, the CPU computes a regression coefficient of the prediction model expression by making a statistical analysis using the blood plasma protein coupling rate PBR and LogD7.4 value.例文帳に追加
ＣＰＵは、読み出した予測モデル式を相関式として、血漿蛋白結合率ＰＢＲとＬｏｇＤ７．４値とを用いて統計解析を行い、予測モデル式の回帰係数を算出する。 - 特許庁
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「plasma model」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 12件
To solve the problem that, since a predicted value by a model formula created before cleaning largely deviates from a set value in a plasma treatment apparatus 1 after cleaning, process parameters of the plasma treatment apparatus 1 after cleaning cannot be predicated using the model formula created before cleaning as it is.例文帳に追加
洗浄後のプラズマ処理装置１の場合には洗浄前に作成されたモデル式による予測値が設定値から大きく外れているため、洗浄前に作成したモデル式をそのまま用いて洗浄後のプラズマ処理装置１のプロセスパラメータを予測することができない。 - 特許庁
A gap detecting device 20 obtains the capacitance component by using a model expressing the characteristic of the reciprocal of the plasma impedance and using the resistance component, and obtains the gap capacitance Cg by subtracting the capacitance component from the resultant capacitance.例文帳に追加
ギャップ検出装置２０は、プラズマインピーダンスの逆数の特性を表現するモデルと抵抗成分とを用いて静電容量成分を求め、合成静電容量から当該静電容量成分を差し引いてギャップ静電容量Ｃｇを求める。 - 特許庁
With the indexing method of allergy seriousness based on a vascular permeability measurement of nonhuman mammal model of allergosis, allergy seriousness can be indexed without requiring skill by indexing the allergy seriousness based on a plasma diapedesis quantity to skin.例文帳に追加
アレルギー疾患非ヒト哺乳動物モデルの血管透過性測定に基づいてアレルギー重症度をインデックス化する方法により、アレルギー重症度を皮膚への血漿漏出量に基づいて、インデックス化すれば、熟練を必要とせずにアレルギー重症度のインデックス化ができる。 - 特許庁
To provide a plasma processing apparatus providing a stable processing result even when variation exists in a process by adding a process model expressing a variation in a state of a process processor to a control loop in Run-to-Run control for changing a processing condition in each wafer treatment.例文帳に追加
ウエハ処理毎に処理条件を変更するRun-to-Run制御において、制御ループにプロセス処理装置の状態の変動を表すプロセスモデルを付加することによりプロセスに変動が存在する場合においても、安定な処理結果を得ることのできるプラズマ処理装置の提供。 - 特許庁
A model baked article is formed by baking a molded article containing inorganic components of a barrier rib provided for a plasma display substrate and baking conditions are determined so as to make the bulk density of the model baked article becomes 89-98% of a theoretical density by changing a baking temperature and a time.例文帳に追加
上記課題は、無機成分を含む成型物を焼成してモデル焼成物を作製し、同条件で焼成を行った基板上パターンの物性とモデル焼成物のかさ密度を予め関連付けた上で、特定の焼成条件で得られるモデル焼成物のかさ密度から同条件で焼成を行った際の基板上パターンの物性を予測することにより、また、プラズマディスプレイ基板に設ける隔壁の無機成分を含有する成型物を焼成してモデル焼成物を作製し、焼成温度、時間を変更してモデル焼成物のかさ密度が理論密度の８９〜９８％となるように焼成条件を決定することによって解決することができる。 - 特許庁
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