plasma profileとは 意味・読み方・使い方

To provide a method for predicting a processing surface profile predicting a process surface profile that a given plasma process will create on a process substrate.例文帳に追加

所定のプラズマプロセスが処理基板に創り出す処理表面プロファイルを予測するための方法を提供する。 - 特許庁

This extension method for the process and profile simulator algorithm predicts the surface profile generated by a given plasma process.例文帳に追加

プロセスおよびプロファイルシミュレータアルゴリズムを拡張する方法は、与えられたプラズマプロセスが生成する表面プロファイルを予測する。 - 特許庁

To provide a method for improving nitrogen profile in plasma nitrided gate dielectric layers.例文帳に追加

プラズマ窒化ゲート誘電層における窒素プロファイルを改善する為の方法を提供する。 - 特許庁

To provide an extension method for a process and profile simulator algorithm used for predicting a surface profile created by a known plasma treatment.例文帳に追加

既知のプラズマ処理が作成する表面プロファイルを予測するためのプロセス及びプロファイルシミュレータのアルゴリズムの拡張方法を提供する。 - 特許庁

To prepare a satisfactory film by utilizing a profile of a flowing direction in a plasma path of an atmospheric process.例文帳に追加

常圧プロセスのプラズマ通路での流れ方向のプロファイルを利用し、より良好な膜を作成する。 - 特許庁

To provide a plasma etching system capable of obtaining a good machining profile by suppressing the adhesion of dust.例文帳に追加

異物の付着を抑制して、良好な加工形状を得ることのできるプラズマエッチング処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma generation system capable of obtaining an etching profile uniformly distributed on a substrate having a large area.例文帳に追加

大面積の基板に対しても均一に分布したエッチングプロファイルが得られるプラズマ発生システムを提供する。 - 特許庁

In the method, the profile transfer substrate surface including a plurality of curvature-shaped parts is formed by isotropic plasma etching via the shadow mask.例文帳に追加

複数の湾曲形状部分を有するプロファイル転写基板表面を、シャドウマスクを介する等方性プラズマエッチングによって形成する。 - 特許庁