ppm vとは 意味・読み方・使い方
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Additionally, one or more kinds selected from ≤50 ppm Si, ≤50 ppm Mn, ≤50 ppm Al, ≤50 ppm B, ≤50 ppm Cr, ≤50 ppm Mo, ≤50 ppm Cu, ≤50 ppm Ni, ≤50 ppm Nb, ≤50 ppm Ti and ≤50 ppm V are further incorporated therein.例文帳に追加
また、これに加えて、Si：50 mass ppm 以下、Mn：50 mass ppm 以下、Al：50 mass ppm 以下、Ｂ：50 mass ppm 以下、Cr：50 mass ppm 以下、Mo：50 mass ppm 以下、Cu：50 mass ppm 以下、Ni：50 mass ppm 以下、Nb：50 mass ppm 以下、Ti：50 mass ppm 以下およびＶ：50 mass ppm 以下のうちから選ばれるいずれか１種または２種以上を含有させる。 - 特許庁
Further, the content of Ti comprised in precipitates with a size of <20 nm is 450 to 1,800 mass ppm, and the content of V is 350 to <1,200 mass ppm.例文帳に追加
さらに、大きさが20nm未満の析出物に含まれるTiは450mass ppm以上1800mass ppm以下、Vは350 mass ppm以上1200mass ppm未満である。 - 特許庁
The magnesium oxide sintered compact for deposition obtained by forming and baking magnesium oxide powder particles contains 10-1,000 ppm Al, 10-1,000 ppm Ca, 10-500 ppm Fe, 1-200 ppm Cr, 1-100 ppm Mn and 1-100 ppm V and has a relative density of 90.0% or more.例文帳に追加
酸化マグネシウム粉末粒子を成形焼成した酸化マグネシウム焼結体であって、前記焼結体が、Alを10〜1000ppm、Caを10〜1000ppm、Feを10〜500ppm、Crを1〜200ppm、Mnを1〜100ppm、Vを1〜100ppmの範囲で含み、相対密度が90.0%以上である蒸着材用酸化マグネシウム焼結体である。 - 特許庁
The foil has a composition containing aluminum having purity of ≥99.9%, and containing ≤100 ppm, Fe, ≤100 ppm Si, 0.1 to 2.0 ppm Pb, 5 to 50 ppm Cu, 0.1 to 1 ppm Ti, 0.4 to 5 ppm V and 0.4 to 5 ppm Zr, and the balance inevitable impurities.例文帳に追加
アルミニウムの純度が９９．９％以上であって、Ｆｅ：１００ｐｐｍ以下、Ｓｉ：１００ｐｐｍ以下、Ｐｂ：０．１〜２．０ｐｐｍ、Ｃｕ：５〜５０ｐｐｍ、Ｔｉ：０．１〜１ｐｐｍ、Ｖ：０．４〜５ｐｐｍ、Ｚｒ：０．４〜５ｐｐｍを含有し、残部が不可避的不純物からなる。 - 特許庁
Preferably, the aluminum foil comprises 1 to 20 ppm Zn and 1 to 50 ppm Zr, and in which the total content of Mn, Mg, Cr, Ti, B, V and Ga in the inevitable impurities is controlled to ≤10 ppm.例文帳に追加
好適には、Ｚｎ：１〜２０ｐｐｍ、Ｚｒ：１〜５０ｐｐｍを含有し、不可避不純物中のＭｎ、Ｍｇ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｂ、Ｖ、Ｇａの総和量を１０ｐｐｍ以下とする。 - 特許庁
The steel sheet has a composition containing, by mass, 1.5 to 20% Cr and 2.5 to 10% Si, and in which the contents of Ti, Nb, V and Zr are reduced to ≤100 ppm in total, and further, the contents of C and N are reduced to ≤50 ppm in total.例文帳に追加
Cr：1.5 mass％以上20mass％以下及びSi：2.5 mass％以上10mass％以下を含有させ、Ti、Nb、Ｖ及びZrを合計量で100 ppm 以下に低減するとともに、Ｃ及びＮを合計量で50ppm 以下に低減する。 - 特許庁
It is possible that, in addition to the above composition, N is contained so as to be regulated to ≤600 ppm, or Ca is contained by ≤0.01%, one or more kinds selected from V, Nb and Ti are contained by ≤0.5% in total, and Al is contained by ≤1.5%.例文帳に追加
上記組成に加えNを600ppm以下に規制し、あるいは、Caを0.01%以下、V,Nb,Tiのうち1種類以上を合計で0.5%以下、Alを1.5%以下含んでもよい。 - 特許庁
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A preform 18 has ≥1,150 ppm OH content, ≤5 nm/cm stress birefringence, ≥1×10^18 molecule/cm^3 H_2 content, ≤20 ppm Cl content and max. 500 ppb content of trace impurities of Cr, Co, Fe, Ni, Cu, V, Zn, Al, Li, K and Na and contains no layered structure.例文帳に追加
OH含有量≧1150ppm、応力複屈折≦5nm/cm、H_2含有量≧1×10^18分子/cm^3、Cl含有量≦20ppm、微量不純物元素Cr、Co、Fe、Ni、Cu、V、Zu、Al、Li、K、Na含有量最大500ppbであり、且つ、実質的に層状構造を含まないプリフォーム１８とする。 - 特許庁
(V) The adsorbent of 5 g is brought into contact with an aqueous solution containing 100 ppm of propionaldehide of 25°C, and after an elapse of 3 minutes the concentration of the aqueous propionaldehide solution becomes 80 ppm or lower.例文帳に追加
（Ｖ）該ガス吸着剤５ｇに２５℃のプロピオンアルデヒド１００ｐｐｍ水溶液を接触させ、３分経過した後における該プロピオンアルデヒド水溶液の濃度が８０ｐｐｍ以下である。 - 特許庁
The total amount of Mn, Mg, Cr, Ti, B, V and Ga in the unavoidable impurities is desirably controlled to 50 ppm or less.例文帳に追加
不回避不純物中におけるＭｎ、Ｍｇ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｂ、Ｖ、Ｇａの総和量を５０ｐｐｍ以下とするのが望ましい。 - 特許庁
The β-1,3-1,6-D-glucan aqueous solution has two signals of 4.7 ppm and 4.5 ppm in ^1H NMR spectrum and shows viscosity of 50 cP ([mPa s]) or less in 0.5% (w/v) concentration at 30°C and pH 5.0.例文帳に追加
β−１，３−１，６−Ｄ−グルカンの水溶液であって、該水溶液の^１Ｈ ＮＭＲスペクトルが４.７ｐｐｍと４.５ｐｐｍの２つのシグナルを有し、該水溶液の３０℃、ｐＨ５.０、濃度０.５％（w/v）における粘度が５０ｃＰ（［ｍＰａ・s］）以下であることを特徴とするβ−１，３−１，６−Ｄ−グルカン水溶液。 - 特許庁
An organic metal containing not more than 0.01 ppm of silicon, not more than 10 ppm of oxygen and not more than 0.04 ppm of germanium is then used as a material containing the group III elements to carry out a growth process (S20) for growing the group III-V compound semiconductor on the seed substrate.例文帳に追加
そして、ＩＩＩ族元素を含む原料として０．０１ｐｐｍ以下のシリコンと、１０ｐｐｍ以下の酸素と、０．０４ｐｐｍ未満のゲルマニウムとを含む有機金属を用いて、種基板上にＩＩＩ−Ｖ族化合物半導体を成長させる成長工程（Ｓ２０）を実施する。 - 特許庁
Subsequently, an organic metal containing not more than 0.01 ppm of silicon, not more than 10 ppm of oxygen and not more than 0.04 ppm of germanium is employed as a material containing the group III elements to carry out a growth process (S20) for growing the group III-V compound semiconductor on the seed substrate.例文帳に追加
そして、ＩＩＩ族元素を含む原料として０．０１ｐｐｍ以下のシリコンと、１０ｐｐｍ以下の酸素と、０．０４ｐｐｍ未満のゲルマニウムとを含む有機金属を用いて、種基板上にＩＩＩ−Ｖ族化合物半導体を成長させる成長工程（Ｓ２０）を実施する。 - 特許庁
The thermoelectric material consists essentially of the Fe-V-Al-based Heusler compound, and the oxygen concentration in the material is <2,000 ppm.例文帳に追加
Ｆｅ−Ｖ−Ａｌ系のホイスラー化合物を主成分とする熱電材料であって、材料中の酸素濃度が２０００ｐｐｍ以下である。 - 特許庁
The iron powder preferably includes at least one element of Al, Ti, V, Cr, Mn, Nb and Sb in an amount of 1,000 ppm or less.例文帳に追加
前記鉄粉は、Ａｌ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｎｂ、Ｓｂの少なくとも1種が１０００ｐｐｍ以下の範囲で添加されているものが好ましい。 - 特許庁
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