pure quartzとは 意味・読み方・使い方

In order to attain good optical characteristics of a quartz glass waveguide element, a pure quartz glass layer 2 containing no dopant is formed on the quartz glass substrate 1 by a low temperature synthesis method.例文帳に追加

石英系ガラス導波路素子の光学的特性を良好なものとするために、石英ガラス基板１上にドーパントを含まない純粋石英ガラス層２を低温合成法により形成する。 - 特許庁

The 1st dopant 41 lowers the refractive index of the 1st clad substrate 33 smaller than that of pure quartz and the 2nd dopant 43 lowers the refractive index of the 2nd clad 37 smaller the refractive index of the pure quartz.例文帳に追加

第１のドーパント４１は、第１のクラッド基板３７の屈折率を純粋石英の屈折率より下げており、第２のドーパント４３は、第２のクラッド３９の屈折率を純粋石英の屈折率より下げる。 - 特許庁

Preferably, the length of the TEC part is 0.2 to 5.0 mm and the length of the pure quartz rod is 0.2 to 5.0 mm.例文帳に追加

ここでＴＥＣ部分の長さは０．２〜５．０ｍｍ、純石英ロッドの長さは０．２〜５．０ｍｍが好ましい。 - 特許庁

To provide a silica or a quartz crucible having an inside layer which is substantially bubble free and highly pure.例文帳に追加

非常に純粋で、ほとんど気泡の無い内側層を有するシリカ又は石英ガラス製るつぼを提供する。 - 特許庁

When it is determined that the cleaning is finished, the quartz member having been cleaned with the pure water is cleaned with hydrochloric acid (HCl).例文帳に追加

終了すると判別すると、純水で洗浄された石英部材を塩酸（ＨＣｌ）で洗浄する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a pure opaque quartz glass article by which the possibility of contamination in the manufacture process is reduced, and to provide the pure opaque quartz glass article characterized by the resistance against the change of temperature, strength and chemical durability.例文帳に追加

製造工程中での汚染のおそれが減少した不透明石英ガラスの製造方法、及び温度変化に対する抵抗性、強度及び化学的耐久性を特徴とする純粋不透明石英ガラス物品を提供する。 - 特許庁

When it is used, a quartz wafer is disposed on the bottom surface of the recessed portion, and a prescribed amount of water 25, preferably pure water, is infused thereinto to float the quartz wafer on the surface of water by its surface tension.例文帳に追加

使用時に、凹所底面に水晶ウエハを配置し、給水タンクから所定量の水２５好適には純水を注入し、その水面に表面張力で水晶ウエハを浮かせる。 - 特許庁

The rod optical fiber preform which is constituted of a quartz glass layer added with Ge (germanium), a quartz glass layer added with F (fluorine) and a pure quartz glass layer in order from the center and which is opened after cutting is cut after heating at 950-1,100°C and holding for a fixed period of time.例文帳に追加

中心部から順に、Ｇｅ（ゲルマニウム）が添加された石英ガラス層と、Ｆ（フッ素）が添加された石英ガラス層と、純粋石英ガラス層とを備えて構成され、切断後に孔開するロッド状の光ファイバ母材を、９５０℃から１１００℃に加熱して一定時間保持した後に割断する。 - 特許庁