pure single crystalとは 意味・読み方・使い方

A pure-metal or alloy layer having a biaxial texture is formed by electroplating on an alloy or metal substrate having an orientation of a single crystal or a crystal grain similar to it.例文帳に追加

単結晶またはそれと類似した結晶粒配列を有する合金または金属基板上に電気鍍金法によって二軸集合組職を有する純金属または合金層を製造する。 - 特許庁

This semiconductor structure comprises a layer containing a single crystal germanium which is preferably substantially pure germanium, a substrate and an embedded insulating layer for separating the layer containing germanium from the substrate.例文帳に追加

好ましくは実質的に純粋なゲルマニウムである単結晶ゲルマニウム含有層と、基板と、ゲルマニウム含有層を基板から分離する埋め込み絶縁層とを含む半導体構造。 - 特許庁

The catalyst layer consisting of the film-like metallic glass demonstrates the catalyst activity equal to or higher than that of a conventional single crystal particle of pure metal in electroless plating reaction.例文帳に追加

この膜状の金属ガラスからなる触媒層は、無電解めっき反応において、従来の純金属の単結晶粒子と同等以上の触媒活性を示す。 - 特許庁

Further, the catalyst layer has high uniformity and has no grain boundary different from the conventional single crystal particle of pure metal, and the plating having the smoothness of the nanometer level can be realized.例文帳に追加

また、この触媒層は、従来の純金属の単結晶粒子と異なり、均一性が高く粒界が存在しないため、ナノメートルレベルの平滑さを備えるめっきを実現することができる。 - 特許庁

Substantially pure cobalt is cast and then cooled slowly at a rate of ≤15°C/min to form a cast target of single-phase h.c.p. crystal structure.例文帳に追加

実質的に純なコバルトをキャストしかつ速度１５℃／分以下でゆっくり冷却して単相ｈ．ｃ．ｐ．結晶構造のキャストされたターゲットを形成する。 - 特許庁

To provide highly pure gallium oxide excellent in filtration performance and washability, favorable for a fluorescent material, a target material, a transparent electrically conductive film and a single crystal substrate material having transparent electric conductivity, and low in impurity content.例文帳に追加

濾過、洗浄性が良好で、かつ蛍光体原料や、ターゲット用原料、透明導電膜や透明導電性を有する単結晶基板材料として好適な、不純物含量の低い、高純度酸化ガリウムを提供する。 - 特許庁

In this manufacturing method, after washing a piezoelectric single crystal wafer for the surface acoustic wave substrate with weak acid liquid whose pH is in the range of 4.0-6.5, it is cleaned with pure water whose pH is in the range of 6.0-8.0 (pre-processing process).例文帳に追加

弾性表面波基板用圧電単結晶ウェーハをｐＨが 4.0〜 6.5の範囲の微弱酸液で洗浄した後、ｐＨが 6.0〜 8.0の範囲の純水で洗浄する（前処理工程）。 - 特許庁

To provide a method for producing highly pure tantalum oxide from tantalum oxide-containing sludge, such as tantalum-containing glass scraps, tantalum residues obtained on the recovery of indium from liquid crystal scraps, lithium tantalate single crystal cut dusts or tantalum-containing potassium salt scraps, as a starting raw material.例文帳に追加

タンタル酸化物含有スラッジ、例えばタンタル含有ガラス屑、液晶スクラップからインジウム回収時に得られるタンタル残渣、タンタル酸リチウム単結晶切削分、タンタル含有カリウム塩スクラップを出発原料とし、これから高純度タンタル酸化物を製造する方法を提供すること。 - 特許庁