spin the plateとは 意味・読み方・使い方

The apparatus includes a spin chuck 1 for holding and rotating a wafer W, and a shielding plate 10, placed above the spin chuck 1.例文帳に追加

この装置は、ウエハＷを保持して回転するスピンチャック１と、スピンチャック１の上方に配置された遮断板１０とを備えている。 - 特許庁

The apparatus includes a spin chuck 1 for rotating a wafer W while holding it, and a shielding plate 10 disposed over the spin chuck 1.例文帳に追加

この装置は、ウエハＷを保持して回転するスピンチャック１と、スピンチャック１の上方に配置された遮断板１０とを備える。 - 特許庁

The apparatus includes: a spin chuck 1 which rotates holding a wafer W; and a shield plate 10 arranged above the spin chuck 1.例文帳に追加

この装置は、ウエハＷを保持して回転するスピンチャック１と、スピンチャック１の上方に配置された遮断板１０とを備えている。 - 特許庁

A supporting part 720 of a substrate holding mechanism 700 is mounted to the spin plate 520.例文帳に追加

スピンプレート５２０には、基板保持機構７００の支持部７２０が取り付けられる。 - 特許庁

At the upper portion of the spin chuck 21, the disk-like screening plate 50 having an opening at the center section is provided.例文帳に追加

スピンチャック２１の上方には、中心部に開口を有する円板状の遮断板５０が設けられている。 - 特許庁

A push-pull plate 2 is opposingly arranged on the surface of the wafer W held by a spin chuck 10.例文帳に追加

スピンチャック１０により保持されたウエハＷの表面に対して、プッシュプルプレート２を対向配置する。 - 特許庁

Then the atmosphere blocking plate 50 is elevated in a state wherein the spin chuck 10 and atmosphere blocking plate 50 are close to each other so that the distance between the spin chuck 10 and atmosphere blocking plate 50 is 2 to 10 mm.例文帳に追加

続いて、スピンチャック１０と雰囲気遮断板５０とが近接する状態から、スピンチャック１０および雰囲気遮断板５０との間の距離Ｄが２ｍｍ以上１０ｍｍ以下となるよう、雰囲気遮断板５０が上昇させられる。 - 特許庁

The spin cleaner 1 further includes a detachable flat rectifying plate 9 on the lower surface side of the silicon wafer W held by the spin table 4 to suppress adherence of a mist due to impurities to the lower surface of the silicon wafer W in cleaning, wherein the rectifying plate is held by the spin table 4 so as to be separated from the silicon wafer W.例文帳に追加

このスピン洗浄装置１は、スピンテーブル４に保持されるシリコンウェーハＷの下面側に、スピンテーブル４により、シリコンウェーハＷと離間するように保持された着脱可能な平板状の整流板９をさらに備え、洗浄の際に不純物によるミストがシリコンウェーハＷの下面に付着することを抑制する。 - 特許庁