substrate levelsとは 意味・読み方・使い方

To prevent increase in interface levels due to nitrogen atoms and hydrogen atoms on an interface between a semiconductor substrate and a silicon oxide film.例文帳に追加

半導体基板とシリコン酸化膜の界面での窒素原子および水素原子による界面準位の増加を防止する。 - 特許庁

By this write clock, levels of the CS and OE are traced and a memory access result for the target substrate 103 is traced every step.例文帳に追加

このライトクロックによって、ＣＳ、ＯＥのレベルをトレースし、またターゲット基板に対するメモリアクセス結果をステップごとにトレースする。 - 特許庁

Levels 19a, 19b are arranged at the lower end part of the cooling fin 19 in response to the height dimension of the component 15 on the substrate 13.例文帳に追加

冷却用フィン１９の下端部に、基板１３上の部品１５の高さ寸法に応じて段差１９ａ，１９ｂを設ける。 - 特許庁

A plurality of test patterns prepared by varying the layout area of line-and-space pattern in different levels of factors are formed on a mask substrate by lithographic processes (S1, S2).例文帳に追加

リソグラフィー処理により、ラインアンドスペースパターンの展開面積を水準振りした複数のテストパターンをマスク基板上に形成する（Ｓ１，Ｓ２）。 - 特許庁

To provide a substrate processing device having a chemical pollutant measuring device capable of realizing an evaluation of pollution caused by a chemical pollutant by classifying an organic matter at several steps of boiling levels and showing respective concentration levels.例文帳に追加

化学汚染物質による汚染の評価を、有機物を数段階の沸点レベルで分類し、それぞれの濃度レベルを示すことを実現させることができる化学汚染物質計測装置を有する基板処理装置を提供する。 - 特許庁

Quantum dots varying in volume are formed on a substrate 711 to generate quantum levels at which state density functions are nearly equaled to each other and a resonance effect is induced between the quantum levels to bond a quantum level of a first quantum dot 712 to quantum levels of a plurality of second quantum dots 713.例文帳に追加

体積が異なる各量子ドットを基板７１１上に形成することにより、状態密度関数がほぼ等しくなる量子準位を作り出し、これらの間で共鳴効果を起こさせることにより、第１の量子ドット７１２の量子準位と、複数の第２の量子ドット７１３の量子準位とを結合させる。 - 特許庁

Then the resist pattern 43 is used as a mask to etch the substrate 41 as shown in (d), and the resist film pattern 43 is peeled from the substrate 41 as shown in (e) to obtain a pattern 41a with two surface levels.例文帳に追加

(d)に示すように、レジスト膜パターン４３をマスクとして基板４１をエッチングし、(e)に示すように、基板４１からレジスト膜パターン４３を剥離すると２段形状のパターン４１ａを得る。 - 特許庁

To provide an immersion liquid removing system capable of controlling levels in an immersion liquid located in a space among a barrier member, a final element of a projection system and a substrate.例文帳に追加

バリア部材と投影システムの最終要素と基板との間のスペースにある液浸液のレベルを制御できる液浸液除去システムを提供する。 - 特許庁