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target atomsとは 意味・読み方・使い方
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「target atoms」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 52件
To increase the number of target atoms vertically beat out from a sputtering target.例文帳に追加
スパッタリング用ターゲットから垂直方向に叩き出されるターゲット原子の個数を増大させる。 - 特許庁
A target 5 includes target atoms P used for forming a thin film, wherein running the atoms P against the walls which are obliquely beat out from the target 5 creates recesses 5a on the surface of the target 5 which block the atoms P from being discharged from the target 5.例文帳に追加
薄膜形成に用いられるターゲット原子Pから構成されたターゲット5において、ターゲット5から斜め方向に叩き出されたターゲット原子Pを側壁に衝突させることでターゲット原子Pがターゲット5から放出されるのを遮る凹部5aを表面に形成する。 - 特許庁
The sputtering target is configured to include target atoms used for thin film deposition.例文帳に追加
実施形態のスパッタリング用ターゲットは、薄膜形成に用いられるターゲット原子を含んで構成されている。 - 特許庁
The first silicon layer 3 is tensile stressed and/or the target layer 1 contains carbon atoms.例文帳に追加
第1シリコン層3は引張応力がかかり、及び/又は、ターゲット層1は炭素原子を含む。 - 特許庁
Preferably, the scattering distances of the atoms are controlled so that the mean free path of the scattered atoms may become longer than the distance between the sputtering target and the forming surface 180.例文帳に追加
飛散した原子の平均自由工程が、スパッタターゲットと形成面180との距離より長くなるように、該距離を制御するのが好ましい。 - 特許庁
Inside a target (primary target layer) same as a conventional one, there is arranged a secondary target layer containing atoms to generate a most suitable energy characteristic X-ray for X-ray imaging.例文帳に追加
従来と同様のターゲット(1次ターゲット層)の内側にX線撮像に最も適したエネルギーの特性X線を発生する原子を含む2次ターゲット層を配置する。 - 特許庁
The composition ratio of the In-Ga-Se target 21 in terms of the element ratio (the ratio of the number of atoms) of Ga/(In+Ga) is 0.1-0.3.例文帳に追加
このとき、In-Ga-Se化合物ターゲット21の組成比として、Ga/(In+Ga)の元素比(原子数の比)は、0.1〜0.3とする。 - 特許庁
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「target atoms」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 52件
Further, each target atom shielding plate 17 is provided so as to shield the flying of the target atoms sprung out from both the edge parts in the parallel direction to the rotary axis 12a of the rotary drum 12 of the target 14 than the flying of the target atoms sprung out from the central part sandwiched between both the edge parts.例文帳に追加
また、ターゲット原子遮断板17は、ターゲット14のうち、回転ドラム12の回転軸12Aに対して平行方向における両端部からはじき出されるターゲット原子の飛来を、上記両端部に挟まれた中央部からはじき出されるターゲット原子の飛来よりも、遮断するように設けられている。 - 特許庁
The deposition apparatus 1 is an apparatus for depositing a film by a PLD (pulsed laser deposition) method where a target 3 placed on a rotating targer table 5 is irradiated with a laser beam 42 emitted from a laser part 4 to excite atoms constituting the target 3 and liberate metal atoms from the target 3 by a thermal/photochemical action.例文帳に追加
成膜装置1は、PLD法によって成膜する装置であり、レーザ部4からレーザ光42を、回転するターゲット台5に載置されたターゲット3に照射し、ターゲット3を構成する原子を励起し、熱的・光化学的作用により、ターゲット3から金属原子を遊離させる。 - 特許庁
The space between a target 8 emitting atoms by a sputtering method and a substrate 14 on which a thin film has been formed by the atoms is deposited with a pole board 16 and a pole board 18.例文帳に追加
スパッタリング法により原子を放出するターゲット8と、この原子により薄膜が形成される基板14の間に磁極板16と磁極板18が配置されている。 - 特許庁
Thereby, atoms 70 in the target material, even if they are unevenly emitted and scattered from the target 4, uniformly deposits on the whole surface of the wafer 8.例文帳に追加
したがって、ターゲット材料の原子70がターゲット4から不均一に分散して飛び出したとしても、ターゲット材料の原子はウェハー8の表面に対し場所によらず均一に被着する。 - 特許庁
To provide a magnetron sputtering reactor capable of ionizing 15% or more of the metal atoms sputtered from a target.例文帳に追加
本発明は、ターゲットからスパッタされる金属原子の15%またはそれ以上をイオン化することができるマグネトロンスパッタリアクターを提供する。 - 特許庁
Then, target atoms are beaten out by the generated plasma, and the electrode is formed on a wiring pattern exposed from the opening part 110.例文帳に追加
そして、該発生したプラズマによってターゲット原子を叩き出し、開口部110から露呈した配線パターン上に電極を形成する。 - 特許庁
The recessed and projected parts cause the target atoms knocked out in an oblique direction at a predetermined angle from recessed positions of the sputtering surface to collide with a sidewall of the recessed and projected parts, thereby preventing the target atoms knocked out in an oblique direction from being discharged from the sputtering surface.例文帳に追加
そして、前記凹凸形状部は、前記スパッタ面の凹部位置から所定の角度で斜め方向に叩き出されたターゲット原子を前記凹凸形状部の側壁に衝突させることで、前記斜め方向に叩き出されたターゲット原子が前記スパッタ面から放出されることを防いでいる。 - 特許庁
The AlOx 2b can be formed by using Al as a target material and using an Ar as a sputtering gas, or by using a target made of Al containing oxygen atoms.例文帳に追加
AlO__x 膜2bは、Alをターゲットとして、スパッタガスとしてO_2 を含むArガスを用いることで形成するか、若しくはターゲットに酸素元素を含むAlを用いることで形成することが可能である。 - 特許庁
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