teg testとは 意味・読み方・使い方

A TEG (Test Element Group) forms an electric characteristic evaluation pattern that is provided with a plurality of unit transistors T11, T12, T13, T21, T22, T23, T31, T32, and T33.例文帳に追加

ＴＥＧ（Test Element Group）１は、格子状に配列された複数の単位トランジスタＴ１１，Ｔ１２，Ｔ１３，Ｔ２１，Ｔ２２，Ｔ２３，Ｔ３１，Ｔ３２，Ｔ３３を備えた電気特性評価パターンである。 - 特許庁

To provide an integrated circuit chip including a test element group (TEG) circuit and then to provide its fabrication method.例文帳に追加

テスト素子グループ（ＴＥＧ）回路を含む集積回路チップ及びそれの製造方法を提供する。 - 特許庁

To effectively utilize a TEG chip after a wafer completion test, and to achieve simplification and cost reduction of a manufacturing process.例文帳に追加

ウェハ完成試験後のＴＥＧチップを有効に活用し、且つ、製造工程の簡易化と低コスト化を図る。 - 特許庁

To make it possible to perform an exact chipping detection without being influenced by any TEG, even if a partitioning schedule line in which the TEG (test element group) exists is set as an object of a calf check.例文帳に追加

ＴＥＧの存在する分割予定ラインをカーフチェックの対象とした場合であっても、ＴＥＧに影響されることなく、正確なチッピング検出を行えるようにする。 - 特許庁

To provide a probe card which can test characteristics of a TEG by the test equipment for an electronic circuit of a semiconductor chip, and a test method using the same.例文帳に追加

半導体チップの電子回路の特性をテストする設備環境において、ＴＥＧの特性テストを行うことが可能なプローブカードおよびそれを用いた試験方法を提供する。 - 特許庁

In the TEG pattern used for the insulation performance test of a wafer level CSP having an inductance element, the TEG pattern is spirally formed.例文帳に追加

また、本発明の第２の態様は、インダクタ素子を有するウエハレベルＣＳＰの絶縁性テストに使用されるＴＥＧパターンにおいて、前記ＴＥＧパターンは、渦巻き状に成形されていることを特徴とする。 - 特許庁

To realize low cost by suppressing the number of LSI chips to be taken on a wafer by an electrode terminal of a scribing TEG (test element group).例文帳に追加

スクライブＴＥＧの電極端子によるＬＳＩチップのウエハ上での取れ数削減を抑制して、低コスト化を実現する。 - 特許庁

A second MR element 22 of a plurality of test patterns TEG is provided with the same material, film thickness and track width Tw as those of a first MR element in a thin film magnetic head with the height h formed differently depending on each test pattern TEG.例文帳に追加

複数のテストパターンＴＥＧの第２ＭＲ素子２２は、薄膜磁気ヘッド１０における第１ＭＲ素子３と同一の材料、同一の膜厚及び同一のトラック幅Ｔｗであって、それぞれのテストパターンＴＥＧによってハイトｈが異なるように形成される。 - 特許庁