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temperature treatmentsとは 意味・読み方・使い方
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「temperature treatments」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 48件
The liquid chemical treatments are typically carried out at a temperature below about 100°C.例文帳に追加
液体化学処理は、典型的には、約１００℃より低い温度にて行われる。 - 特許庁
The heat treatments of the metallic rod are executed in the time shorter than 20 minutes and at a temperature lower than 1,000°C.例文帳に追加
金属棒の加熱処理は、２０分より短い間に、１０００℃より低い温度で実施される。 - 特許庁
Thus, the two heat treatments in the different temperature ranges are performed continuously and speedily.例文帳に追加
これにより、温度帯域の異なる２つの熱処理を連続的に且つ迅速に行なう。 - 特許庁
The support medium can be manufactured, by using oxidation treatments preferably low-temperature plasma discharge treatments in oxygen or in an gaseous atmosphere containing oxygen.例文帳に追加
この支持体は酸化処理、好ましくは酸素または酸素を含むガス雰囲気下で低温プラズマ放電処理を用いることにより、製造することが可能である。 - 特許庁
When continuously performing the treatments in a plurality of treatment chambers, the temperature of the substrate is increased by performing the treatments together except a treatment in the treatment chambers reaching the highest temperature, a radiation heat is increased thereby, and the treatment is performed a plurality of times in the treatment chamber reaching the highest temperature.例文帳に追加
また、複数の処理室において連続して処理する場合に、最高温度に達する処理室以外では一度に処理を行って基板温度を上昇させ、輻射熱を大きくし、最高温度に達する処理室では処理を複数回に分ける。 - 特許庁
To realize an exothermic treatment apparatus by which temperature distributions appropriate to treatment parts with various shapes are formed and stable treatments can be performed.例文帳に追加
様々な形状の処置部に対して、適した温度分布を形成して安定した処置を行うことが可能な発熱処置装置を実現する。 - 特許庁
Preferably, the drying process includes two stages of drying treatments in which the temperature of a first drying treatment is lower than that of a second drying treatment.例文帳に追加
前記乾燥工程は、先の乾燥処理の温度が、後の乾燥処理の温度よりも低温である２段階の乾燥処理を含むことが好ましい。 - 特許庁
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「temperature treatments」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 48件
To provide a high-current-amplification-factor semiconductor device which has no need of high temperature heat treatments and a uniform doping profile, and its manufacturing method.例文帳に追加
高温の熱処理を不要とし、均一なドーピングプロファイルをもつ高電流増幅率の半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
Objects to be measured are silicon wafers formed by epitaxial growth and wafers formed by high-temperature annealing treatments.例文帳に追加
測定対象は、エピタキシャル成長させたシリコンウェーハや、高温アニール処理されたウェーハである。 - 特許庁
To avoid deteriorating a semiconductor device using an SiC substrate due to high temperature heat treatments and improve the reliability of the device.例文帳に追加
ＳｉＣ基板を使用する半導体デバイスにおいて高温熱処理に伴うデバイスの劣化を防止し、デバイスの信頼性向上を図る。 - 特許庁
To provide the heat treatment method of an object to be treated, which is capable of continuously and speedily performing two heat treatments in different temperature ranges.例文帳に追加
温度帯域の異なる２つの熱処理を連続的に且つ迅速に行なうことが可能な被処理体の熱処理方法を提供する。 - 特許庁
To provide a water-borne resin composition which has adhesiveness capable of responding to low temperature baking treatments and has excellent stain resistance, water resistance, and the like.例文帳に追加
低温焼付に対応可能な付着性を有し、耐汚染性、耐水性等に優れた水性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
The above treatments can be performed in the same treatment chamber while maintaining the temperature of the substrate at preferably 125-500°C.例文帳に追加
前記処理は同一の処理チャンバ内で、基板温度を好ましくは１２５〜５００℃の間に維持して実行できる。 - 特許庁
The first and second solid solution treatments are applied under the nitrogen atmosphere containing 1-10% hydrogen with the dew point of the atmosphere -7 to 0°C, and in the temperature range not lower than the recrystallization temperature of the maraging steel and ≤850°C.例文帳に追加
第１の溶体化と第２の溶体化とは、１〜１０％の水素を含み、雰囲気露点−７〜０℃の窒素雰囲気下、前記マルエージング鋼の再結晶温度以上、８５０℃以下の範囲の温度にて行う。 - 特許庁
Between heat treatments, the yoke is moved between the first heating coil and the second heating coil without being heated so that the temperature thereof is kept constant and the temperature of respective parts is made uniform.例文帳に追加
また、ヨークは、加熱処理の間において、第１の加熱コイルと第２の加熱コイルの間を加熱されずに移動することにより、その温度がを略一定に保たれるとともに各部の温度が均一化されて温度均一化処理が行われる。 - 特許庁
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