the empty maskとは 意味・読み方・使い方

This option indicates that the mailboxwindow should be shaped if masks for the empty or full images are given.発音を聞く 例文帳に追加

\\-shapeこのオプションは。 もし empty か full イメージへの mask が与えられた場合。 - XFree86

The mask drawing data remaining in the operation memory 23a is eliminated by being overwritten by empty data stored in the management server 22 of the receiver.例文帳に追加

そして、演算メモリ２３ａに残存するマスク描画データは受信装置の管理サーバ２２に格納されている空のデータの上書により消去される。 - 特許庁

A hard mask for etching the interlayer dielectric is formed by patterning the uppermost metal layer 5 of a multilevel interconnection insulated by the interlayer dielectric 3, and the interlayer dielectric 3 is etched using the mask to form the empty groove 4 which is located in the periphery of the semiconductor substrate 1 to makes its surface exposed.例文帳に追加

層間絶縁膜３により絶縁された多層配線の最上層の金属層５をパターニングして層間絶縁膜エッチング用ハードマスクを形成し、このマスクを用いて、層間絶縁膜３をエッチングして半導体基板１の周辺部分に基板表面が露出する空堀４を形成する。 - 特許庁

The accuracy of disposed positions of the segment electrode and the common electrode with respect to the black mask is easily grasped from relative positions of the second and third graduation indexes 10, 12 to corresponding empty recesss 8d.例文帳に追加

これら第２、第３目盛り印１０、１２の対応する空白凹部８ｄに対する相対位置から、セグメント電極とコモン電極のブラックマスクに対する設置位置精度を容易に把握できる。 - 特許庁

A wiring pattern containing pads 2g is formed by patterning the metal layer 5 which has been used as a mask, at least a passivation film 6 is formed on the surface of the semiconductor substrate 1 where the empty groove 4 is formed, and an opening is provided to the passivation film 6 to make the pads 2g exposed.例文帳に追加

マスクとして用いられた金属層５をパターニングしてパッド２ｇを含む配線パターンを形成し、空堀４が形成された半導体基板１表面に少なくとも１層のパッシベーション膜６を形成し、パッシベーション膜６を開口して前記パッド２ｇを露出させる。 - 特許庁

A fluoroscopic image of an empty container is previously registered as a mask image data, differential computing is carried out with each test object fluoroscopic image, and foreign matter detection processing is carried out on an image data obtained as a result of the differential computing.例文帳に追加

空容器のＸ線透視画像データを予めマスク画像データとして登録しておき、各検査対象物のＸ線透視画像データとの間で差分演算し、この結果の画像データに対して異物検出処理を行う。 - 特許庁

A subject to be exposed is exposed by lightning a mask having a pattern of contact holes and an auxiliary pattern smaller than the pattern of contact holes with a light that forms an effective light source having an empty center of non circular shape, and projecting the pattern of contact holes on the subject to be exposed using a projecting optical system.例文帳に追加

コンタクトホールパターンと当該コンタクトホールパターンよりも寸法が小さな補助パターンとを有するマスクを、中央が非円形形状に抜けた有効光源を形成する光で照明し、前記コンタクトホールパターンを投影光学系で被露光体に投影することにより、当該被露光体を露光することを特徴とする露光方法を提供する。 - 特許庁