upper derivativeとは 意味・読み方・使い方

The purified polyol is obtained by adding a decomposing agent comprising an amine compound and a derivative thereof in a molar ratio of 1/1.25 to 10/1 based on a urethane bond contained in the polyurethane resin to chemically decompose the polyurethane resin, separating the obtained polyurethane-decomposed product, and distilling a crude polyol layer which is the upper layer under a reduced pressure.例文帳に追加

この発明は、ウレタン樹脂中に含まれるウレタン結合に対して、アミン化合物及びその誘導体からなる分解剤をモル比で１／１．２５〜１０／１添加し、化学分解して得られたウレタン樹脂分解物を分離させ、上層である粗製ポリオール層を減圧蒸留することによって、精製ポリオールを得ることを特徴とする。 - 特許庁

The photosensitive lithographic printing plate precursor includes in the following order: a support having a hydrophilic surface; a lower layer containing a polymer compound having a unit derived from a (meth)acrylic acid derivative monomer of a specific structure, a polymer compound having an aminomethyl structure-containing group in a side chain, and an infrared absorbent; and an upper layer containing a water-insoluble and alkali-soluble resin.例文帳に追加

親水性表面を有する支持体上に、特定構造の（メタ）アクリル酸誘導体モノマーに由来する単位を有する高分子化合物、アミノメチル構造含有基を側鎖に有する高分子化合物及び赤外線吸収剤を含有する下層と、水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂を含有する上層と、をこの順に有することを特徴とする。 - 特許庁

The detergent product has a liquid container having an inner vessel 10 having an opening 12 which is formed at its upper part and is to be covered with a lid 13 and a paper box 20 which houses this inner vessel 10, and a detergent housed in the above inner vessel, and the above detergent uses a specified solvent as the cleaning base material and, simultaneously, uses a specified aryl derivative.例文帳に追加

上部に形成された口部１２に蓋体１３が施蓋される内側容器１０と、この内側容器１０を収容する紙製箱体２０とを有する液体容器と、前記内側容器内に収納された洗浄剤とを備える洗浄剤製品であって、前記洗浄剤が、洗浄基材として特定の溶剤を用い、且つ特定のアリール誘導体を用いたものとする。 - 特許庁

To provide a resist underlayer film material of a multilayer resist film used in lithography for forming a resist underlayer that prevents wiggling in substrate etching and prevents a poisoning problem in forming an upper layer pattern using a chemically amplified resist, to provide a process for forming the resist underlayer film, and to provide a patterning process and a fullerene derivative.例文帳に追加

本発明は、リソグラフィーで用いられる多層レジスト膜のレジスト下層膜材料であって、基板エッチング中のよれの発生を高度に抑制できると共に、化学増幅型レジストを用いた上層パターン形成におけるポイゾニング問題を回避できるレジスト下層膜、を形成するためのレジスト下層膜材料、レジスト下層膜形成方法、及びパターン形成方法、及びフラーレン誘導体を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a resist underlayer film material for a multilayer resist film used in lithography for forming a resist underlayer film which has very excellent dry etching resistance, highly prevents twisting during substrate etching, and avoids a poisoning problem in forming an upper layer pattern using a chemically amplified resist, a method for forming the resist underlayer film, a patterning method, and a fullerene derivative.例文帳に追加

リソグラフィーで用いられる多層レジスト膜のレジスト下層膜材料であって、ドライエッチング耐性に非常に優れ、基板エッチング中のよれの発生を高度に抑制できると共に、化学増幅型レジストを用いた上層パターン形成におけるポイゾニング問題を回避できるレジスト下層膜を形成するためのレジスト下層膜材料、レジスト下層膜形成方法、パターン形成方法、及びフラーレン誘導体を提供することを目的とする。 - 特許庁